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minner__

金虫 (小有名气)

[求助] 高功率脉冲磁控溅射,求大神指导

高功率脉冲磁控溅射沉积氮化铬涂层,一个小时没镀上,求教可能的原因?
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辛苦了

铁虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

考虑过“反溅射”吗?
高峰值脉冲溅射会引起朗缪尔壳层极速扩展,脉冲电压消失瞬间,真空室内的电场有瞬态畸变,无论基板是否悬浮,都可能在这个畸变电场作用下,Ar+冲向基板,将处在基板表面,尚处于高能态的刚刚沉积的原子或原子团溅射掉。
判定途径:用示波器仔细查看处于悬浮态基板的电压波形,若出现绝对值很高的负脉冲(如大于200V),则可以认为发生了反溅射。
若确认发生的反溅射。试试这个措施:基板接地,或使用低内阻电源施加不超过-70的偏压。
27楼2013-11-22 21:10:23
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xaver2010

金虫 (小有名气)

引用回帖:
31楼: Originally posted by xsz2013 at 2015-03-18 18:02:26
为什么要抑制柱状晶的出现呢?我的也出现柱状晶了,菜鸟求教,谢谢了...

搞不定啊,你再问问楼主。。。貌似她说解决了啊
32楼2015-03-19 20:38:32
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普通回帖

wbcui

至尊木虫 (知名作家)

妹子的设备是哪里买的啊?
2楼2013-11-05 20:47:14
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minner__

金虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by wbcui at 2013-11-05 20:47:14
妹子的设备是哪里买的啊?

沈阳的
坚持
3楼2013-11-05 20:48:52
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

引用回帖:
3楼: Originally posted by minner__ at 2013-11-05 21:48:52
沈阳的

沈科仪的么?
你的沉积速率多高啊?
4楼2013-11-05 21:04:58
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minner__

金虫 (小有名气)

引用回帖:
4楼: Originally posted by wbcui at 2013-11-05 21:04:58
沈科仪的么?
你的沉积速率多高啊?...

沈阳科友的。我这个应该不是仪器的问题,以前镀得都还好,今天第一次用高功率脉冲做,参数比照文献设的,但感觉溅射时靶材亮度不对,还不停闪。应该还是我参数设的不好。你对这方面懂吗?我是刚开始做这个的菜鸟,求指教。。
坚持
5楼2013-11-05 21:16:38
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匿名

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本帖仅楼主可见
6楼2013-11-05 21:27:32
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minner__

金虫 (小有名气)

引用回帖:
6楼: Originally posted by pwj525 at 2013-11-05 21:27:32
可能是基体表面没有处理好,导致界面粘结性不好!

跟以前一样处理的,就换了下电源
坚持
7楼2013-11-05 21:29:46
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

引用回帖:
5楼: Originally posted by minner__ at 2013-11-05 22:16:38
沈阳科友的。我这个应该不是仪器的问题,以前镀得都还好,今天第一次用高功率脉冲做,参数比照文献设的,但感觉溅射时靶材亮度不对,还不停闪。应该还是我参数设的不好。你对这方面懂吗?我是刚开始做这个的菜鸟, ...

是不是短路了?
你靶材表面和靶材电极附近清理了么?
你有设备的外观照或者内部构造的照片么?
8楼2013-11-05 21:54:49
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zkchang

木虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by minner__ at 2013-11-05 21:16:38
沈阳科友的。我这个应该不是仪器的问题,以前镀得都还好,今天第一次用高功率脉冲做,参数比照文献设的,但感觉溅射时靶材亮度不对,还不停闪。应该还是我参数设的不好。你对这方面懂吗?我是刚开始做这个的菜鸟, ...

有闪烁会不会是打弧了?
也有可能功率过高导致靶表面击穿?
正常磁控溅射的靶表面功率密度是5-10W/cm2,最大不能超过20W/cm2,要考虑到文献中与自己设备的区别(比如溅射靶尺寸等)。
建议上张图。
9楼2013-11-06 08:09:33
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minner__

金虫 (小有名气)

引用回帖:
8楼: Originally posted by wbcui at 2013-11-05 21:54:49
是不是短路了?
你靶材表面和靶材电极附近清理了么?
你有设备的外观照或者内部构造的照片么?...

应该不是,每天都会清理。换靶材时也都用万用表测得,不会短路,电源也没用过流提示。
坚持
10楼2013-11-06 09:09:02
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