[求助] 高功率脉冲磁控溅射，求大神指导

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坚持

1楼2013-11-05 15:38:18

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2楼: Originally posted by wbcui at 2013-11-05 20:47:14
妹子的设备是哪里买的啊？

沈阳的

坚持

3楼2013-11-05 20:48:52

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4楼: Originally posted by wbcui at 2013-11-05 21:04:58
沈科仪的么？
你的沉积速率多高啊？...

沈阳科友的。我这个应该不是仪器的问题，以前镀得都还好，今天第一次用高功率脉冲做，参数比照文献设的，但感觉溅射时靶材亮度不对，还不停闪。应该还是我参数设的不好。你对这方面懂吗？我是刚开始做这个的菜鸟，求指教。。

坚持

5楼2013-11-05 21:16:38

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6楼: Originally posted by pwj525 at 2013-11-05 21:27:32
可能是基体表面没有处理好，导致界面粘结性不好！

跟以前一样处理的，就换了下电源

坚持

7楼2013-11-05 21:29:46

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8楼: Originally posted by wbcui at 2013-11-05 21:54:49
是不是短路了？
你靶材表面和靶材电极附近清理了么？
你有设备的外观照或者内部构造的照片么？...

应该不是，每天都会清理。换靶材时也都用万用表测得，不会短路，电源也没用过流提示。

坚持

10楼2013-11-06 09:09:02

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9楼: Originally posted by zkchang at 2013-11-06 08:09:33
有闪烁会不会是打弧了？
也有可能功率过高导致靶表面击穿？
正常磁控溅射的靶表面功率密度是5-10W/cm2，最大不能超过20W/cm2，要考虑到文献中与自己设备的区别（比如溅射靶尺寸等）。
建议上张图。...

觉得你说得挺在理的。靶表面功率密度怎么计算？功率/体积，还是功率/表面积？对于高脉冲电源是用平均功率计算吗？谢谢。。。

坚持

11楼2013-11-06 09:29:19

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12楼: Originally posted by wbcui at 2013-11-06 22:32:13
问一下妹子
这种脉冲溅射和普通的磁控溅射有什么差别啊？
有什么优势?...

靶材离化率高些。镀膜质量好些。峰值功率比平均功率高两个数量级。你也做这方面？

坚持

13楼2013-11-06 22:35:24