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xunmengyuan

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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

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感谢参与,应助指数 +1
xunmengyuan: 金币+10, ★★★很有帮助 2013-08-04 10:54:42
xunmengyuan: 金币+10 2013-08-05 08:09:35
不知道你的怎么需要这么长时间

你可以尝试调整一下靶材到基片的距离,以增大沉积速率

一般情况下,如果溅射系统质量够好的话,比如冷却到位,电源稳定性很好,这么长时间应该没问题,就怕中途靶材开裂,造成成分变化、
2楼2013-08-04 00:05:00
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xunmengyuan

禁虫 (正式写手)

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3楼2013-08-04 10:54:24
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

引用回帖:
3楼: Originally posted by xunmengyuan at 2013-08-04 11:54:24
靶间距已经很小了,也就6cm,你做过连续10个小时的溅射吗、我以前最长的一个小时,没做过这么久的,怕吧设备弄坏了。...

我做过
不过功率不大,
应该在100w左右吧

如果不保险,最好还是不要这么搞

还有一个原因是:你的电极中靶材到磁铁的距离太大了, 或者说生产厂家怕磁体冷却不充分,而增大Cu层的厚度确保冷却效果好。或者生产厂家所使用的磁体牌号不高。
4楼2013-08-04 22:44:54
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xunmengyuan

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5楼2013-08-05 08:09:18
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chery2005

铜虫 (初入文坛)

用的什么溅射气体啊,具体流量什么的你也没说,我倒是觉得是溅射气压太高了,使得溅射离子发生散射几率增大,到达基底上的就少。
6楼2013-08-05 10:10:41
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hll07056211

金虫 (小有名气)

可以分三次溅射试试,一般射频容易坏,中间停半小时就可以的。

[ 发自小木虫客户端 ]
活在当下
7楼2013-08-05 17:03:05
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xunmengyuan

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8楼2013-08-05 18:36:30
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xunmengyuan

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9楼2013-08-05 18:36:38
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chery2005

铜虫 (初入文坛)

木有金币
10楼2013-08-06 09:29:39
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