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磁控溅射&离子溅射
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各位前辈好！ 我想在我的碳基体上溅射一层铂，本来想用磁控溅射，但是学校的设备要排队，偶然间发现学校的扫描电镜室的喷金设备也可以喷铂，他们有铂靶。查了一下那个设备是小型离子溅射仪。不知道用这种离子溅射上去的铂和磁控溅射的铂有什么不同吗？比如和基体的结合力啥的。 如果没啥区别的话我以后就用离子溅射也可以吗？ 由于是新虫，只有两个半金币，都悬赏了哈～不要嫌弃呀 |
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