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关于磁控溅射靶材的颗粒
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| 磁控溅射硅靶材颗粒的大小对成膜有什么影响，颗粒大是不是镀出的薄膜较疏松？ |
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 磁控溅射靶材资料大全 | 真空镀膜类技术资料 |
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天也潇潇: 回帖置顶 2012-05-24 08:28:40
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我也认为靶材参数对溅射薄膜致密度影响不大，真正能够造成影响的应该是你的溅射功率和溅射气压，尤其是溅射气压。如果薄膜过于致密，是否考虑适当降低溅射的气压？ 我们以前非常关注靶材的晶粒度，但后来发现其实靶材的晶粒尺寸对最终薄膜性能影响不大，当然不是指过分大的晶粒。最为重要的是晶粒尺寸的均匀性，这种均匀性除了在靶材平面上的之外，还应考虑在靶材厚度方向上的，毕竟你的靶材是会消耗的，要求不同截面的晶粒尺寸尽量一致，进而保证薄膜的均匀性。 此外，为了避免不必要的杂质引入，还是适当要求靶材的纯度，尤其是那些可能会对你最终薄膜性能构成不良影响的杂质。再就是致密度，一般粉末冶金方法制备的靶材致密度较低，这关乎靶材的最大功率密度以及溅射镀膜的均匀性。 意见未必正确，欢迎讨论！ |
6楼2012-05-24 08:26:17
10楼2012-10-30 17:31:41
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