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wu_zhenhui

银虫 (初入文坛)

[求助] 关于磁控溅射靶材的颗粒

磁控溅射硅靶材颗粒的大小对成膜有什么影响,颗粒大是不是镀出的薄膜较疏松?
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wu_zhenhui

银虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by diamondli99 at 2012-05-23 09:56:15:
楼主是不是应该是靶材的晶粒尺寸?而不是颗粒大小?
根据我们的经验,靶材重要的是关注晶粒尺寸的均匀性,而不是单单考虑晶粒的大小。最终薄膜的性能虽然受靶材性能的影响,但是实际溅射工艺的影响要更大。
欢迎讨

谢谢,我们想用磁控溅射沉积二氧化硅薄膜,但获得的薄膜太致密,有什么办法能让它疏松一点呢?
3楼2012-05-23 11:05:05
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diamondli99

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
天也潇潇: 金币+1, 鼓励应助 2012-05-24 08:27:47
楼主是不是应该是靶材的晶粒尺寸?而不是颗粒大小?
根据我们的经验,靶材重要的是关注晶粒尺寸的均匀性,而不是单单考虑晶粒的大小。最终薄膜的性能虽然受靶材性能的影响,但是实际溅射工艺的影响要更大。
欢迎讨论!
2楼2012-05-23 09:56:15
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why22825

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
天也潇潇: 金币+2, 鼓励应助交流 2012-05-24 08:28:29
经验来讲,好像对于成膜的晶粒大小,主要取决于溅射中的功率,还有其他的溅射条件,对于靶材貌似影响不是太大。
4楼2012-05-23 11:13:10
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wu_zhenhui

银虫 (初入文坛)

引用回帖:
4楼: Originally posted by why22825 at 2012-05-23 11:13:10:
经验来讲,好像对于成膜的晶粒大小,主要取决于溅射中的功率,还有其他的溅射条件,对于靶材貌似影响不是太大。

3Q~
那靶材有哪些参数很重要?例如晶粒大小、纯度、均匀性等,对磁控溅射镀的薄膜质量分别会有什么影响呢?
5楼2012-05-23 11:27:22
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