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磁控溅射双靶与单靶在制备中的应用
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磁控溅射双靶与单靶: 小弟最近要用磁控溅射设备制备薄膜,平时用的是单靶。但是,实验室其他人用的是双靶。如果把双靶换成单靶需要一定的时间,麻烦。 所以小弟想问一下,用双靶代替单靶制备薄膜是否可以呢?当然,薄膜会淀积成,但是有什么区别呢? |
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chemlh: 金币+1, 欢迎积极交流 2012-10-24 08:22:30
risktaker111: 金币+2, 谢谢 2012-10-24 16:24:05
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LZ,我也做过磁控溅射,仍然真心不明白你要表达什么。我只能根据自己的揣测回答你的问题。 假设你用A靶和B靶依次进行单靶溅射,则制得的材料构型应该是Substrate\A film\B film,其中A膜和B膜之间存在清晰的界面,也就是说基材上有两层薄膜;如果是A靶和B靶进行双靶溅射,则基材表面仅生成一层薄膜,这层薄膜由A和B通过一定比率掺杂形成,材料构型为Substrate\A-B film。 |
4楼2012-10-22 16:20:41
9楼2012-10-22 17:16:46
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叶小猪儿5楼
2012-10-22 16:43
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2012-10-22 16:47
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fangxin8楼
2012-10-22 17:01
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sciencemaji13楼
2012-10-23 13:57
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chemlh15楼
2012-10-24 08:22
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chemlh16楼
2012-10-24 08:24
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