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[交流]
磁控溅射双靶与单靶在制备中的应用
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磁控溅射双靶与单靶： 小弟最近要用磁控溅射设备制备薄膜，平时用的是单靶。但是，实验室其他人用的是双靶。如果把双靶换成单靶需要一定的时间，麻烦。 所以小弟想问一下，用双靶代替单靶制备薄膜是否可以呢？当然，薄膜会淀积成，但是有什么区别呢？ |
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risktaker111(金币+1): 谢谢参与
chemlh: 金币+1, 欢迎积极交流 2012-10-24 08:22:30
risktaker111: 金币+2, 谢谢 2012-10-24 16:24:05
risktaker111(金币+1): 谢谢参与
chemlh: 金币+1, 欢迎积极交流 2012-10-24 08:22:30
risktaker111: 金币+2, 谢谢 2012-10-24 16:24:05
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LZ，我也做过磁控溅射，仍然真心不明白你要表达什么。我只能根据自己的揣测回答你的问题。 假设你用A靶和B靶依次进行单靶溅射，则制得的材料构型应该是Substrate\A film\B film，其中A膜和B膜之间存在清晰的界面，也就是说基材上有两层薄膜；如果是A靶和B靶进行双靶溅射，则基材表面仅生成一层薄膜，这层薄膜由A和B通过一定比率掺杂形成，材料构型为Substrate\A-B film。 |
4楼2012-10-22 16:20:41
9楼2012-10-22 17:16:46
2楼2012-10-22 15:20:13
3楼2012-10-22 15:59:32
10楼2012-10-22 17:27:30
11楼2012-10-22 18:57:06
12楼2012-10-23 11:53:52
14楼2012-10-23 23:17:05
17楼2012-10-24 09:59:24
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叶小猪儿5楼
2012-10-22 16:43
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risktaker111(金币+1): 谢谢参与
2012-10-22 16:47
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2012-10-22 16:59
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fangxin8楼
2012-10-22 17:01
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sciencemaji13楼
2012-10-23 13:57
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chemlh15楼
2012-10-24 08:22
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chemlh16楼
2012-10-24 08:24
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