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risktaker111

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[交流] 磁控溅射双靶与单靶在制备中的应用

磁控溅射双靶与单靶：
小弟最近要用磁控溅射设备制备薄膜，平时用的是单靶。但是，实验室其他人用的是双靶。如果把双靶换成单靶需要一定的时间，麻烦。
所以小弟想问一下，用双靶代替单靶制备薄膜是否可以呢？当然，薄膜会淀积成，但是有什么区别呢？

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1楼2012-10-22 15:04:51

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linberg

木虫 (正式写手)

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★ ★ ★
risktaker111(金币+1): 谢谢参与
risktaker111: 金币+2, 谢谢 2012-10-24 16:24:17

引用回帖:

4楼: Originally posted by Ivan_ye at 2012-10-22 16:20:41
LZ，我也做过磁控溅射，仍然真心不明白你要表达什么。我只能根据自己的揣测回答你的问题。
假设你用A靶和B靶依次进行单靶溅射，则制得的材料构型应该是Substrate\A film\B film，其中A膜和B膜之间存在清晰的界面， ...

应该就是你说的这种情况。楼主的单靶估计是掺杂靶，就是A+B混合烧结的靶，双靶就是A靶和B靶共溅射吧。根据我的理解，如果楼主想在很大范围内改变A/B比例的话，还是双靶共溅射好，不用去做很多不同比例的单靶。但是如果B只是少量掺杂的话，单靶溅射的重复性等等要好一些。

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