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磁控溅射双靶与单靶在制备中的应用
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risktaker111
金虫
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(幼儿园)
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虫号: 1290575
[交流]
磁控溅射双靶与单靶在制备中的应用
磁控溅射双靶与单靶:
小弟最近要用磁控溅射设备制备薄膜,平时用的是单靶。但是,实验室其他人用的是双靶。如果把双靶换成单靶需要一定的时间,麻烦。
所以小弟想问一下,用双靶代替单靶制备薄膜是否可以呢?当然,薄膜会淀积成,但是有什么区别呢?
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1楼
2012-10-22 15:04:51
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dxf930
金虫
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★ ★ ★
risktaker111(金币+1): 谢谢参与
risktaker111: 金币+2, 谢谢
2012-10-24 16:24:40
1、单靶和双把的电源不同,所以功率不一样!工艺自己再摸索。
2、你单双靶所需要的靶材尺寸也不同的。
3、关键还是和你的材料有关系。冒昧的问一下你想镀什么?
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12楼
2012-10-23 11:53:52
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Ivan_ye
金虫
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★ ★ ★ ★
risktaker111(金币+1): 谢谢参与
chemlh: 金币+1, 欢迎积极交流
2012-10-24 08:22:30
risktaker111: 金币+2, 谢谢
2012-10-24 16:24:05
LZ,我也做过磁控溅射,仍然真心不明白你要表达什么。我只能根据自己的揣测回答你的问题。
假设你用A靶和B靶依次进行单靶溅射,则制得的材料构型应该是Substrate\A film\B film,其中A膜和B膜之间存在清晰的界面,也就是说基材上有两层薄膜;如果是A靶和B靶进行双靶溅射,则基材表面仅生成一层薄膜,这层薄膜由A和B通过一定比率掺杂形成,材料构型为Substrate\A-B film。
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4楼
2012-10-22 16:20:41
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linberg
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★ ★ ★
risktaker111(金币+1): 谢谢参与
risktaker111: 金币+2, 谢谢
2012-10-24 16:24:17
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4楼
:
Originally posted by
Ivan_ye
at 2012-10-22 16:20:41
LZ,我也做过磁控溅射,仍然真心不明白你要表达什么。我只能根据自己的揣测回答你的问题。
假设你用A靶和B靶依次进行单靶溅射,则制得的材料构型应该是Substrate\A film\B film,其中A膜和B膜之间存在清晰的界面, ...
应该就是你说的这种情况。楼主的单靶估计是掺杂靶,就是A+B混合烧结的靶,双靶就是A靶和B靶共溅射吧。根据我的理解,如果楼主想在很大范围内改变A/B比例的话,还是双靶共溅射好,不用去做很多不同比例的单靶。但是如果B只是少量掺杂的话,单靶溅射的重复性等等要好一些。
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9楼
2012-10-22 17:16:46
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wu1008
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9楼
:
Originally posted by
linberg
at 2012-10-22 17:16:46
应该就是你说的这种情况。楼主的单靶估计是掺杂靶,就是A+B混合烧结的靶,双靶就是A靶和B靶共溅射吧。根据我的理解,如果楼主想在很大范围内改变A/B比例的话,还是双靶共溅射好,不用去做很多不同比例的单靶。但是 ...
其实,共溅射的效果真心不怎么样
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10楼
2012-10-22 17:27:30
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叶小猪儿
5楼
2012-10-22 16:43
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3楼
:
Originally posted by
neu234
at 2012-10-22 15:59:32 高深啊
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