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risktaker111

金虫 (正式写手)

[交流] 磁控溅射双靶与单靶在制备中的应用

磁控溅射双靶与单靶：
小弟最近要用磁控溅射设备制备薄膜，平时用的是单靶。但是，实验室其他人用的是双靶。如果把双靶换成单靶需要一定的时间，麻烦。
所以小弟想问一下，用双靶代替单靶制备薄膜是否可以呢？当然，薄膜会淀积成，但是有什么区别呢？
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1楼 2012-10-22 15:04:51
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Ivan_ye

金虫 (正式写手)
★ ★ ★ ★
risktaker111(金币+1): 谢谢参与
chemlh: 金币+1, 欢迎积极交流 2012-10-24 08:22:30
risktaker111: 金币+2, 谢谢 2012-10-24 16:24:05
LZ，我也做过磁控溅射，仍然真心不明白你要表达什么。我只能根据自己的揣测回答你的问题。
假设你用A靶和B靶依次进行单靶溅射，则制得的材料构型应该是Substrate\A film\B film，其中A膜和B膜之间存在清晰的界面，也就是说基材上有两层薄膜；如果是A靶和B靶进行双靶溅射，则基材表面仅生成一层薄膜，这层薄膜由A和B通过一定比率掺杂形成，材料构型为Substrate\A-B film。
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4楼2012-10-22 16:20:41
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linberg

木虫 (正式写手)
★ ★ ★
risktaker111(金币+1): 谢谢参与
risktaker111: 金币+2, 谢谢 2012-10-24 16:24:17
引用回帖:
4楼: Originally posted by Ivan_ye at 2012-10-22 16:20:41
LZ，我也做过磁控溅射，仍然真心不明白你要表达什么。我只能根据自己的揣测回答你的问题。
假设你用A靶和B靶依次进行单靶溅射，则制得的材料构型应该是Substrate\A film\B film，其中A膜和B膜之间存在清晰的界面， ...

应该就是你说的这种情况。楼主的单靶估计是掺杂靶，就是A+B混合烧结的靶，双靶就是A靶和B靶共溅射吧。根据我的理解，如果楼主想在很大范围内改变A/B比例的话，还是双靶共溅射好，不用去做很多不同比例的单靶。但是如果B只是少量掺杂的话，单靶溅射的重复性等等要好一些。
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9楼2012-10-22 17:16:46
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wu1008

金虫 (著名写手)
引用回帖:
9楼: Originally posted by linberg at 2012-10-22 17:16:46
应该就是你说的这种情况。楼主的单靶估计是掺杂靶，就是A+B混合烧结的靶，双靶就是A靶和B靶共溅射吧。根据我的理解，如果楼主想在很大范围内改变A/B比例的话，还是双靶共溅射好，不用去做很多不同比例的单靶。但是 ...

其实，共溅射的效果真心不怎么样
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10楼2012-10-22 17:27:30
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大水杯

木虫 (著名写手)
★
risktaker111(金币+1): 谢谢参与
我也不太明白你说的单靶与双靶是什么意思，是上面所说的做掺杂吗？
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11楼2012-10-22 18:57:06
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叶小猪儿5楼
2012-10-22 16:43   回复  
risktaker111(金币+1): 谢谢参与
引用回帖:
3楼: Originally posted by neu234 at 2012-10-22 15:59:32 高深啊

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