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risktaker111

金虫 (正式写手)

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[交流] 磁控溅射双靶与单靶在制备中的应用

磁控溅射双靶与单靶：
小弟最近要用磁控溅射设备制备薄膜，平时用的是单靶。但是，实验室其他人用的是双靶。如果把双靶换成单靶需要一定的时间，麻烦。
所以小弟想问一下，用双靶代替单靶制备薄膜是否可以呢？当然，薄膜会淀积成，但是有什么区别呢？

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1楼 2012-10-22 15:04:51

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Ivan_ye

金虫 (正式写手)

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★ ★ ★ ★
risktaker111(金币+1): 谢谢参与
chemlh: 金币+1, 欢迎积极交流 2012-10-24 08:22:30
risktaker111: 金币+2, 谢谢 2012-10-24 16:24:05

LZ，我也做过磁控溅射，仍然真心不明白你要表达什么。我只能根据自己的揣测回答你的问题。
假设你用A靶和B靶依次进行单靶溅射，则制得的材料构型应该是Substrate\A film\B film，其中A膜和B膜之间存在清晰的界面，也就是说基材上有两层薄膜；如果是A靶和B靶进行双靶溅射，则基材表面仅生成一层薄膜，这层薄膜由A和B通过一定比率掺杂形成，材料构型为Substrate\A-B film。

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