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对靶直流磁控溅射制备ZAO膜打火严重
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使用对靶直流磁控溅射法制备ZAO薄膜时，背地真空在2*10-4Pa,Ar流量50sccm，5Pa起辉时打火严重，电流表跟电压表晃动特别厉害，都能听到撞的声音，然后把起辉压强调至15Pa，能稳定一段时间但是还是会有打火现象，不过比5Pa时好很多，在此基础上将压强调小，到达8Pa左右时出现严重打火现象 请教各位虫友，为何会出现上述状况？万分感谢！！ |
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