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wangyong832

银虫 (著名写手)

[求助] 磁控溅射换靶材之后功率变化很大?

我用脉冲直流反应磁控溅射制备氧化物半导体薄膜,换了一个新靶材(第一次用)之后,发现靶材电压比原来那个旧靶材提高了将近100V(用的是恒流模式), 提高比例达17%,功率提高了近20%。关键是长出了的薄膜都变了。我其他参数都没变。
通常换新靶材后由于靶材表面几何形状的变化电压会有一定变化,但也不至于这么大吧?
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floljf

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与,应助指数 +1
chemlh: 金币+1, 欢迎积极交流 2012-11-16 09:37:41
没有太明白你说的意思。

不懂为什么靶电压为什么会变?你自己调的还是设备自动调的呢?不过即使是自动,电压,功率总有一个你要给定参数的了。
根据帕邢曲线,电压由气压和基片靶材间距决定,这个是气体放电的问题,镀膜质量的问题你需要调整功率等参数,譬如说靶材的致密度不同,
可能需要的功率要大一些,但是这个变化不会太大的
2楼2012-11-16 09:07:45
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熊熊猪

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
感谢参与,应助指数 +1
chemlh: 金币+1, 欢迎积极交流 2012-11-17 08:52:24
可能三个原因,一是你的靶没有装好,二是你的靶材不是金属的,不能用恒流模式,三是你的靶材没有清理,一般用之前不放样品预沉积。
3楼2012-11-16 11:24:10
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wangyong832

银虫 (著名写手)

引用回帖:
3楼: Originally posted by 熊熊猪 at 2012-11-16 11:24:10
可能三个原因,一是你的靶没有装好,二是你的靶材不是金属的,不能用恒流模式,三是你的靶材没有清理,一般用之前不放样品预沉积。

1.靶材是装好的。最开始没装好,螺丝拧的不够紧,电压比较高,拧紧后电压明显有所下降。
2. 靶材是金属的,新买的。
3. 新靶材预先沉积了20分钟。
4楼2012-11-16 20:28:34
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wangyong832

银虫 (著名写手)

引用回帖:
3楼: Originally posted by 熊熊猪 at 2012-11-16 11:24:10
可能三个原因,一是你的靶没有装好,二是你的靶材不是金属的,不能用恒流模式,三是你的靶材没有清理,一般用之前不放样品预沉积。

你说的这3点我都注意到了
5楼2012-11-16 20:29:16
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wangyong832

银虫 (著名写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by floljf at 2012-11-16 09:07:45
没有太明白你说的意思。

不懂为什么靶电压为什么会变?你自己调的还是设备自动调的呢?不过即使是自动,电压,功率总有一个你要给定参数的了。
根据帕邢曲线,电压由气压和基片靶材间距决定,这个是气体放电的问 ...

我用的是恒流模式,新旧两个靶材用的电流都一样。
对于换新靶材,通常功率会有微小变化,但是我这变化太大了。功率增加20%
6楼2012-11-17 00:47:25
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钦点木瓜

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
不明白为什么会变那么大,换了新靶是什么意思,材料还是原来的哪种材料吗?还有靶是不是同一家做的,有可能成分偏差
用绳命来搞科研
7楼2012-11-17 14:46:32
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wh198699

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
wangyong832: 金币+4 2012-11-21 02:13:21
磁控溅射就是那样的吧,我们这个也是这样的,新换的靶材由于厚度增加了,磁场会发生一些变化吧,所以电压会增加,随着靶材慢慢变薄,电压会越来越低,我们这个也是这样。我要做恒流的模式,经常新换的靶材电流加不上去,我都要先溅射一段时间再用,很浪费!!!
8楼2012-11-17 18:35:41
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wangyong832

银虫 (著名写手)

引用回帖:
8楼: Originally posted by wh198699 at 2012-11-17 18:35:41
磁控溅射就是那样的吧,我们这个也是这样的,新换的靶材由于厚度增加了,磁场会发生一些变化吧,所以电压会增加,随着靶材慢慢变薄,电压会越来越低,我们这个也是这样。我要做恒流的模式,经常新换的靶材电流加不上 ...

赞同你的观点。
我想这个是磁控溅射的一个很大缺点吧
9楼2012-11-17 20:31:04
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