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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 半导体 » 磁控溅射换靶材之后功率变化很大？
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wangyong832

银虫 (著名写手)

[求助] 磁控溅射换靶材之后功率变化很大？

我用脉冲直流反应磁控溅射制备氧化物半导体薄膜，换了一个新靶材（第一次用）之后，发现靶材电压比原来那个旧靶材提高了将近100V（用的是恒流模式）, 提高比例达17%，功率提高了近20%。关键是长出了的薄膜都变了。我其他参数都没变。
通常换新靶材后由于靶材表面几何形状的变化电压会有一定变化，但也不至于这么大吧？
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反应磁控溅射 材料制备 磁控溅射靶材资料大全

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1楼 2012-11-16 02:37:45
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wh198699

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
wangyong832: 金币+4 2012-11-21 02:13:21
磁控溅射就是那样的吧，我们这个也是这样的，新换的靶材由于厚度增加了，磁场会发生一些变化吧，所以电压会增加，随着靶材慢慢变薄，电压会越来越低，我们这个也是这样。我要做恒流的模式，经常新换的靶材电流加不上去，我都要先溅射一段时间再用，很浪费！！！
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8楼2012-11-17 18:35:41
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floljf

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
chemlh: 金币+1, 欢迎积极交流 2012-11-16 09:37:41
没有太明白你说的意思。

不懂为什么靶电压为什么会变？你自己调的还是设备自动调的呢？不过即使是自动，电压，功率总有一个你要给定参数的了。
根据帕邢曲线，电压由气压和基片靶材间距决定，这个是气体放电的问题，镀膜质量的问题你需要调整功率等参数，譬如说靶材的致密度不同，
可能需要的功率要大一些，但是这个变化不会太大的
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2楼2012-11-16 09:07:45
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熊熊猪

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
chemlh: 金币+1, 欢迎积极交流 2012-11-17 08:52:24
可能三个原因，一是你的靶没有装好，二是你的靶材不是金属的，不能用恒流模式，三是你的靶材没有清理，一般用之前不放样品预沉积。
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3楼2012-11-16 11:24:10
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wangyong832

银虫 (著名写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 熊熊猪 at 2012-11-16 11:24:10
可能三个原因，一是你的靶没有装好，二是你的靶材不是金属的，不能用恒流模式，三是你的靶材没有清理，一般用之前不放样品预沉积。

1.靶材是装好的。最开始没装好，螺丝拧的不够紧，电压比较高，拧紧后电压明显有所下降。
2. 靶材是金属的，新买的。
3. 新靶材预先沉积了20分钟。
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4楼2012-11-16 20:28:34
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