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对靶直流磁控溅射制备ZAO膜打火严重
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我要做实验
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对靶直流磁控溅射制备ZAO膜打火严重
使用对靶直流磁控溅射法制备ZAO薄膜时,背地真空在2*10-4Pa,Ar流量50sccm,5Pa起辉时打火严重,电流表跟电压表晃动特别厉害,都能听到撞的声音,然后把起辉压强调至15Pa,能稳定一段时间但是还是会有打火现象,不过比5Pa时好很多,在此基础上将压强调小,到达8Pa左右时出现严重打火现象
请教各位虫友,为何会出现上述状况?万分感谢!!
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1楼
2013-05-16 21:04:40
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2013-05-17 20:12:02
我要做实验: 金币+2,
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2013-05-18 08:47:52
你的这个实验参数我没有做过,感觉有点问题。
起辉气压2-5Pa,打火说明靶材表面有异物,适当增大电流,清洗靶材,
10-30分钟后,再次调整沉积气压和电流。
我做ZAO薄膜都是0.5-1Pa。仅供参考。
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2楼
2013-05-17 19:18:35
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2楼
:
Originally posted by
qwcmos
at 2013-05-17 19:18:35
你的这个实验参数我没有做过,感觉有点问题。
起辉气压2-5Pa,打火说明靶材表面有异物,适当增大电流,清洗靶材,
10-30分钟后,再次调整沉积气压和电流。
我做ZAO薄膜都是0.5-1Pa。仅供参考。
我们的设备只有一个旋钮,调电流的话就电压一定会动,而且电流只有0.04A的时候电压就有1000V左右了。
刚开电源开关的时候会有,电压 表会有示数,电流为0,过一段时间慢慢归0.当灭辉的时候,电流为0了,电压仍有示数,过一段时间慢慢归0,您见过这种状况吗?
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3楼
2013-05-18 08:47:33
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★
我要做实验: 金币+1, 我想知道更具体一点的
2013-05-20 08:40:48
引用回帖:
3楼
:
Originally posted by
我要做实验
at 2013-05-18 08:47:33
我们的设备只有一个旋钮,调电流的话就电压一定会动,而且电流只有0.04A的时候电压就有1000V左右了。
刚开电源开关的时候会有,电压 表会有示数,电流为0,过一段时间慢慢归0.当灭辉的时候,电流为0了,电压仍有示 ...
这种情况,我认为是正常的。
电流0.04A,1000V左右,粗略计算DC功率40W,这也不算大。
改变一下气压看看吧。
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2013-05-20 07:56:09
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4楼
:
Originally posted by
qwcmos
at 2013-05-20 07:56:09
这种情况,我认为是正常的。
电流0.04A,1000V左右,粗略计算DC功率40W,这也不算大。
改变一下气压看看吧。...
已经改过气压了,但是不能降到8Pa一下,不然就打火严重的不行,调气压时,随着气压的降低,电压会增大,电流不变,您能解释一下为什么吗?
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5楼
2013-05-20 08:40:29
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我要做实验: 金币+1
2013-05-23 09:02:18
fbqrdzs: 金币+1, 应助指数+1, 鼓励新虫交流。
2013-07-15 11:00:53
DC的还没做过,昨天我做的RF,1.0pa,90W,一切正常。出现打弧,是不是和偏压有关系呢
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6楼
2013-05-23 08:46:16
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3楼
:
Originally posted by
我要做实验
at 2013-05-18 08:47:33
我们的设备只有一个旋钮,调电流的话就电压一定会动,而且电流只有0.04A的时候电压就有1000V左右了。
刚开电源开关的时候会有,电压 表会有示数,电流为0,过一段时间慢慢归0.当灭辉的时候,电流为0了,电压仍有示 ...
我的电流表,电压表也是这种情况,很正常
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7楼
2013-07-15 10:50:37
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