【答案】应助回帖

wbcui

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【答案】应助回帖

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xunmengyuan: 金币+10, ★★★很有帮助 2013-08-04 10:54:42
xunmengyuan: 金币+10 2013-08-05 08:09:35

不知道你的怎么需要这么长时间

你可以尝试调整一下靶材到基片的距离，以增大沉积速率

一般情况下，如果溅射系统质量够好的话，比如冷却到位，电源稳定性很好，这么长时间应该没问题，就怕中途靶材开裂，造成成分变化、

2楼2013-08-04 00:05:00

xunmengyuan

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3楼2013-08-04 10:54:24

wbcui

至尊木虫 (知名作家)

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引用回帖:

3楼: Originally posted by xunmengyuan at 2013-08-04 11:54:24
靶间距已经很小了，也就6cm，你做过连续10个小时的溅射吗、我以前最长的一个小时，没做过这么久的，怕吧设备弄坏了。...

我做过
不过功率不大，
应该在100w左右吧

如果不保险，最好还是不要这么搞

还有一个原因是：你的电极中靶材到磁铁的距离太大了，或者说生产厂家怕磁体冷却不充分，而增大Cu层的厚度确保冷却效果好。或者生产厂家所使用的磁体牌号不高。

4楼2013-08-04 22:44:54

xunmengyuan

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5楼2013-08-05 08:09:18

chery2005

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用的什么溅射气体啊，具体流量什么的你也没说，我倒是觉得是溅射气压太高了，使得溅射离子发生散射几率增大，到达基底上的就少。

6楼2013-08-05 10:10:41

hll07056211

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可以分三次溅射试试，一般射频容易坏，中间停半小时就可以的。

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活在当下

7楼2013-08-05 17:03:05

xunmengyuan

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8楼2013-08-05 18:36:30

xunmengyuan

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9楼2013-08-05 18:36:38

chery2005

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木有金币

10楼2013-08-06 09:29:39