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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

引用回帖:
18楼: Originally posted by minner__ at 2013-11-07 13:24:22
离化率高的话,我的理解就是类似于离子镀了,沉积在基片上的膜层会致密些,绕镀性好些。...

妹子有这方面的书籍么?
21楼2013-11-07 18:32:48
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xaver2010

金虫 (小有名气)

楼主问题搞定了吗??换用脉冲电源是因为要抑制柱状晶生长吗??我之之前溅射的金属因为柱状晶生长很明显,也打算改用脉冲电源呢。。

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22楼2013-11-12 15:36:28
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minner__

金虫 (小有名气)

引用回帖:
21楼: Originally posted by wbcui at 2013-11-07 18:32:48
妹子有这方面的书籍么?...

没有。。
坚持
23楼2013-11-12 21:21:52
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ddx4142

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
minner__: 金币+5 2013-11-24 09:26:22
引用回帖:
5楼: Originally posted by minner__ at 2013-11-05 21:16:38
沈阳科友的。我这个应该不是仪器的问题,以前镀得都还好,今天第一次用高功率脉冲做,参数比照文献设的,但感觉溅射时靶材亮度不对,还不停闪。应该还是我参数设的不好。你对这方面懂吗?我是刚开始做这个的菜鸟, ...

根据你的实验现象,靶材不够亮,不停闪。个人觉得可能是Ar气气压和电源功率不匹配导致,可以考虑增大氩气流量,同时增大电源功率。
24楼2013-11-12 21:32:46
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minner__

金虫 (小有名气)

引用回帖:
22楼: Originally posted by xaver2010 at 2013-11-12 15:36:28
楼主问题搞定了吗??换用脉冲电源是因为要抑制柱状晶生长吗??我之之前溅射的金属因为柱状晶生长很明显,也打算改用脉冲电源呢。。

差不多算解决了。抑制柱状晶的话,可以添加一些其他组元。工艺也能影响形貌,你试下吧。
坚持
25楼2013-11-12 21:34:46
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xaver2010

金虫 (小有名气)

引用回帖:
25楼: Originally posted by minner__ at 2013-11-12 21:34:46
差不多算解决了。抑制柱状晶的话,可以添加一些其他组元。工艺也能影响形貌,你试下吧。...

其他组元是指什么??加入其他金属元素吗??最近很愁这个事情啊,间歇进行溅射也存在柱状晶的生长啊。。多谢啦
26楼2013-11-12 21:47:35
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辛苦了

铁虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

考虑过“反溅射”吗?
高峰值脉冲溅射会引起朗缪尔壳层极速扩展,脉冲电压消失瞬间,真空室内的电场有瞬态畸变,无论基板是否悬浮,都可能在这个畸变电场作用下,Ar+冲向基板,将处在基板表面,尚处于高能态的刚刚沉积的原子或原子团溅射掉。
判定途径:用示波器仔细查看处于悬浮态基板的电压波形,若出现绝对值很高的负脉冲(如大于200V),则可以认为发生了反溅射。
若确认发生的反溅射。试试这个措施:基板接地,或使用低内阻电源施加不超过-70的偏压。
27楼2013-11-22 21:10:23
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aaron5235

木虫 (正式写手)

镀的太久了,HPPMS离化率很高,持续的离子轰击会造成应力过大
人生在世,俯仰之间,唯有追求卓越,但求尽其所能
28楼2014-04-23 21:03:44
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aaron5235

木虫 (正式写手)

是不是电压很低呢?你的靶材是什么形状的?多大呢
人生在世,俯仰之间,唯有追求卓越,但求尽其所能
29楼2014-09-02 13:10:48
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minner__

金虫 (小有名气)

引用回帖:
29楼: Originally posted by aaron5235 at 2014-09-02 13:10:48
是不是电压很低呢?你的靶材是什么形状的?多大呢

已解决,谢谢!
坚持
30楼2014-09-06 20:13:42
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