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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 请教磁控溅射的气压和功率对薄膜质量的作用，谢谢！
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meteorabob

铜虫 (正式写手)

[交流] 请教磁控溅射的气压和功率对薄膜质量的作用，谢谢！

请问磁控溅射时，气压和功率的大小与生长的薄膜质量的关系是什么？
还有一个问题是：功率大小对应磁控溅射中的哪一个条件？是Ar+离子的速度？还是Ar+离子的数量？
谢谢大家！
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1楼 2012-05-02 10:29:56
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南宫若萱涟漪

金虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
18楼: Originally posted by xaifei at 2013-04-11 08:55:33
根据你说的意思可能是指真空室里面的气体分压，举个例子，比如我用磁控溅射渡CrN，当腔体里的Ar：N2比偏大时，那么电离之后分子碰撞的自由程变大，这样导致溅射出来电离原子的能量损失就更大，从而薄膜的质量偏低， ...

可是想要得到的薄膜的比例就是N含量少一点，你说Ar：N2比偏大导致薄膜的质量偏低，那这该怎么办啊？
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19楼2014-09-12 09:30:15
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minglight9

铁杆木虫 (著名写手)
★ ★
meteorabob(金币+1): 谢谢参与
蒋青松: 金币+1, 鼓励交流 2012-05-05 07:43:35
功率影响的是Ar+离子的速度
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2楼2012-05-02 18:03:45
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userhung

禁虫 (文学泰斗)
★
meteorabob(金币+1): 谢谢参与
不是Ar+离子的数量
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3楼2012-05-02 18:30:58
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nanodot

金虫 (小有名气)
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
meteorabob(金币+1): 谢谢参与
meteorabob: 金币+5 2012-05-04 23:16:40
蒋青松: 金币+2, 鼓励交流 2012-05-05 07:43:04
气压越低，真空质量越好，膜的质量高，杂质少。在一定的功率范围内，功率越高氩气电离度越高，氩离子的密度增加，应该是氩离子数量增加，提高溅射速率和溅射离子的能量，使成膜的附着力好，膜层致密。
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4楼2012-05-04 08:52:55
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