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请教磁控溅射的气压和功率对薄膜质量的作用,谢谢!
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meteorabob
铜虫
(正式写手)
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(小学生)
金币: 15
帖子: 605
在线: 377.5小时
虫号: 1063234
[交流]
请教磁控溅射的气压和功率对薄膜质量的作用,谢谢!
请问磁控溅射时,气压和功率的大小与生长的薄膜质量的关系是什么?
还有一个问题是:功率大小对应磁控溅射中的哪一个条件?是Ar+离子的速度?还是Ar+离子的数量?
谢谢大家!
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2012-05-02 10:29:56
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xaifei
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★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
7楼
:
Originally posted by
nanodot
at 2012-05-05 09:22:43
为了保护分子泵,一般工作气压是要小10Pa的。只要真空腔内有其它物质肯定有微量的掺杂,这是可以忽略不计的。工作气压的大小对沉积速率是有一定影响的,有一个最大值,你可以根据你的材料和你实验的其它条件测出这 ...
根据你说的意思可能是指真空室里面的气体分压,举个例子,比如我用磁控溅射渡CrN,当腔体里的Ar:N2比偏大时,那么电离之后分子碰撞的自由程变大,这样导致溅射出来电离原子的能量损失就更大,从而薄膜的质量偏低,还有你说的功率大会导致离子的数量增加,因为功率大靶材的溅射会增加,离子数会增加的,不知道我的回答你是否满意,谢谢!
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18楼
2013-04-11 08:55:33
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minglight9
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★ ★
meteorabob(金币+1): 谢谢参与
蒋青松: 金币+1, 鼓励交流
2012-05-05 07:43:35
功率影响的是Ar+离子的速度
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2楼
2012-05-02 18:03:45
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userhung
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★
meteorabob(金币+1): 谢谢参与
不是Ar+离子的数量
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3楼
2012-05-02 18:30:58
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nanodot
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★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
meteorabob(金币+1): 谢谢参与
meteorabob: 金币+5
2012-05-04 23:16:40
蒋青松: 金币+2, 鼓励交流
2012-05-05 07:43:04
气压越低,真空质量越好,膜的质量高,杂质少。在一定的功率范围内,功率越高氩气电离度越高,氩离子的密度增加,应该是氩离子数量增加,提高溅射速率和溅射离子的能量,使成膜的附着力好,膜层致密。
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4楼
2012-05-04 08:52:55
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