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请教磁控溅射的气压和功率对薄膜质量的作用，谢谢！
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meteorabob
铜虫
(正式写手)
应助: 23
(小学生)
金币: 15
帖子: 605
在线: 377.5小时
虫号: 1063234
[交流]
请教磁控溅射的气压和功率对薄膜质量的作用，谢谢！
请问磁控溅射时，气压和功率的大小与生长的薄膜质量的关系是什么？
还有一个问题是：功率大小对应磁控溅射中的哪一个条件？是Ar+离子的速度？还是Ar+离子的数量？
谢谢大家！
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1楼
2012-05-02 10:29:56
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userhung
禁虫
(文学泰斗)
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★
meteorabob(金币+1): 谢谢参与
不是Ar+离子的数量
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3楼
2012-05-02 18:30:58
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minglight9
铁杆木虫
(著名写手)
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★ ★
meteorabob(金币+1): 谢谢参与
蒋青松: 金币+1, 鼓励交流
2012-05-05 07:43:35
功率影响的是Ar+离子的速度
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2楼
2012-05-02 18:03:45
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nanodot
金虫
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帖子: 267
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虫号: 1544578
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
meteorabob(金币+1): 谢谢参与
meteorabob: 金币+5
2012-05-04 23:16:40
蒋青松: 金币+2, 鼓励交流
2012-05-05 07:43:04
气压越低，真空质量越好，膜的质量高，杂质少。在一定的功率范围内，功率越高氩气电离度越高，氩离子的密度增加，应该是氩离子数量增加，提高溅射速率和溅射离子的能量，使成膜的附着力好，膜层致密。
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4楼
2012-05-04 08:52:55
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meteorabob
铜虫
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(小学生)
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引用回帖:
4楼
:
Originally posted by
nanodot
at 2012-05-04 08:52:55:
气压越低，真空质量越好，膜的质量高，杂质少。在一定的功率范围内，功率越高氩气电离度越高，氩离子的密度增加，应该是氩离子数量增加，提高溅射速率和溅射离子的能量，使成膜的附着力好，膜层致密。
谢谢您耐心的解答！有一点是我说的气压不是溅射开始时抽真空达到的气压，是溅射时的气压，这不会涉及到杂质的问题吧？这个时候的气压大小和薄膜质量有什么关系呢？谢谢！
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5楼
2012-05-04 23:05:59
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