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FLYFWY

木虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射曲面工件膜厚均匀性 已有1人参与

工件是三分之一柱面的玻璃,用磁控溅射方法在其内表面镀金属铱,
但曲面会引起不同部分的靶基距不同。
想请教一下大家,用什么方法可以提高膜的均匀性?
谢谢大家!
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
使用旋转靶材,让工件和靶材同圆心,并且靶材不断在自转。
2楼2014-09-11 11:10:57
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FLYFWY

木虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by peterflyer at 2014-09-11 11:10:57
使用旋转靶材,让工件和靶材同圆心,并且靶材不断在自转。

你的意思是用那种处于轴心的长条靶材,工件处于圆周位置,靶材自转?
我们的镀膜机是矩形靶在下方,工件固定在上方,工件可以自转。
我的担心是在于工件有弧度,柱面底部与边缘的靶基距不一样,这样会不会造成膜厚不均啊?
3楼2014-09-11 21:47:28
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer


引用回帖:
3楼: Originally posted by FLYFWY at 2014-09-11 21:47:28
你的意思是用那种处于轴心的长条靶材,工件处于圆周位置,靶材自转?
我们的镀膜机是矩形靶在下方,工件固定在上方,工件可以自转。
我的担心是在于工件有弧度,柱面底部与边缘的靶基距不一样,这样会不会造成膜 ...

我说的不是长条形靶材,而是圆柱状的旋转靶材。
4楼2014-09-11 22:29:34
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