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[交流]
【学术交流】 磁控溅射——应用领域交流
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物理气相沉积（Physical Vapor Deposition, PVD）技术早在20世纪初已有些应用，并在最近30年得到迅速发展，成为一门具有广阔应用前景的新技术。其中磁控溅射镀膜（magnetron sputtering）和离子镀膜（Ion Plating）应用最为广泛。 |
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
418783132: 金币+10, 不错 很详细！希望以后多到无机非交流~ 2012-05-06 00:25:53
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
418783132: 金币+10, 不错 很详细！希望以后多到无机非交流~ 2012-05-06 00:25:53
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我做的是硅钛薄膜， 设备名称： 高真空多靶磁控溅射镀膜机 设备型号： JCP-350 主要技术指标 真空腔室 φ350 mm×H400mm； 真空系统 复合分子泵+直联旋片泵,气动真空阀门，“两低一高”数显复合真空计； 真空极限 优于8.0×10-5Pa； 抽速 从大气抽至6.0×10-3Pa≤15min； 可镀膜尺寸 2英寸1片，散片若干； 基片加热与旋转 衬底加热：室温～500℃，自动测温，PID控温；基片旋转：0-20转/分钟，可调可控； 溅射靶规格 2英寸，标配2只、1对蒸发电极，另预留1只靶位（中频溅射+射频溅射） 膜厚不均匀性 ≤±5%； 控制方式 手动按钮控制； 报警及保护 对泵、靶、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施； 占地面积 长×宽: 1600×1400mm； |
3楼2012-05-05 22:50:12
4楼2012-05-05 22:51:30
2楼2012-05-05 08:59:10
8楼2012-05-08 15:13:53
9楼2012-05-08 15:50:29
10楼2012-08-27 09:52:27
11楼2013-04-17 12:28:18
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13楼2013-05-21 22:18:27
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15楼2014-01-10 10:40:33
16楼2014-11-02 17:19:52
17楼2014-11-02 23:03:58
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2012-05-08 13:28
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祝福！
2012-05-08 14:14
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2012-05-08 14:17
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