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磁控溅射叉指电极制作方案中遇到的问题已有6人参与
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大家好!我现在介绍下实验内容: 制作一金叉指电极(磁控溅射),其尺寸为10*10mm,其叉指条纹宽度为10um,间距为200um,其叉指条纹数量20个。 1.定制相应尺寸的光刻掩膜板; 2.基片清洗,经抛光、丙酮、无水乙醇和去离子水处理后烘干; 3.旋涂光刻胶,采用KW-4A型匀胶机旋涂; 4.掩膜曝光,将掩膜板放入光刻机光刻,并显影; 5.溅射,将上述基底放入溅射机溅射金属电极; 6.超声剥离,浸入丙酮溶液,并用超声剥离得到叉指电极。 以上制作步骤是胡永明先生专利提供的方法。 我现在遇到的问题是: 1.光刻掩膜板定制的公司及价位(除南京清微电子外); 2.以上各步骤所需要的制作时间和操作注意事项; 3.光刻技术相关设备型号、实验材料以及优缺点(如光刻机型号、光刻胶型号)。 [ Last edited by congqin312 on 2013-7-11 at 14:46 ] |
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| 做个4寸的版的话的确要花1000元左右,我们一般在中科院微电子所制版,说实话,价格有些小贵。制版一般很快,只要你把版图发过去,一周左右就会做完。麻烦的是后面的工艺阶段,这个过程不是一次能成功的,特别是光刻过程,但以你的结构来说,叉指数量少,间距大,这个应该不是太困难,就是叉指太狭小,光刻过程中会遇到些困难。所以,光刻前,匀胶的均匀性必须控制好,合理选择匀胶转速,匀胶后还要进行烘胶。如果对叉指精度要求严格的话,光刻中光刻功率,曝光时间都需进行合理设置。还有,光刻完成后,进行溅射金前,建议先溅射一层很薄的铬,再去溅射金,以提高金玉基地的粘附性。进行剥离时,不建议使用超声剥离,这样会使叉指脱落。我们实验室用的是SUUS的光刻机,光刻胶我一般用4620正胶,显影液AZ300和AZ400都可以,但AZ400用时需要稀释一下。不建议去纳米所去做,因为费用很贵。随便找个有光进口刻机的大学里都能完成这个实验,而且价格可以协商。祝好 |
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9楼2013-07-10 19:33:19

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