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highchen

金虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
考虑清楚是采用lift off 工艺还是刻蚀工艺(可以用离子刻蚀工艺刻蚀金),这两个是不同的掩模版,其中使用lift off工艺做10um的线宽是有一定的问题的,不是上面说的那么简单,比较保险的方法要么采用双层胶工艺,要不是反转胶工艺,直接使用单层光刻胶剥离因线宽限制不可能做的很高,而溅射的台阶覆盖性比较好,最后剥离的时候有一定的难度;可换蒸发镀膜工艺,对台阶的覆盖性差,便于剥离。
另一个工艺是刻蚀,这个主要靠设备,你的线宽下难度倒不大。不过国内有刻蚀金设备的不多。
11楼2013-07-11 11:37:05
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highchen

金虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
附带说一句,该专利对做小线宽的叉指电极结构没有太大的意义。
12楼2013-07-11 11:39:35
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读书湖朱哥

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
11楼: Originally posted by highchen at 2013-07-11 11:37:05
考虑清楚是采用lift off 工艺还是刻蚀工艺(可以用离子刻蚀工艺刻蚀金),这两个是不同的掩模版,其中使用lift off工艺做10um的线宽是有一定的问题的,不是上面说的那么简单,比较保险的方法要么采用双层胶工艺,要 ...

谢谢您的帮助!“使用lift off工艺做10um的线宽是有一定的问题的”,这个地方是有不妥的地方,可能其它地方的工艺也有问题。
我现在对着方面的工艺不了解,等我了解之后再找您讨论下!谢谢!
13楼2013-07-11 13:49:02
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wang00

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
11楼: Originally posted by highchen at 2013-07-11 11:37:05
考虑清楚是采用lift off 工艺还是刻蚀工艺(可以用离子刻蚀工艺刻蚀金),这两个是不同的掩模版,其中使用lift off工艺做10um的线宽是有一定的问题的,不是上面说的那么简单,比较保险的方法要么采用双层胶工艺,要 ...

金电极两三百纳米用5214反转很好剥。问题是线宽和线距差这么多,不知是什么应用,否则直接丝网印刷省钱不少。
14楼2013-07-22 20:37:57
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匿名

用户注销 (初入文坛)


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15楼2018-01-18 16:26:21
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