| 查看: 2261 | 回复: 16 | |||||
| 当前只显示满足指定条件的回帖,点击这里查看本话题的所有回帖 | |||||
[交流]
【学术交流】 磁控溅射——应用领域交流
|
|||||
物理气相沉积(Physical Vapor Deposition, PVD)技术早在20世纪初已有些应用,并在最近30年得到迅速发展,成为一门具有广阔应用前景的新技术。其中磁控溅射镀膜(magnetron sputtering)和离子镀膜(Ion Plating)应用最为广泛。 |
» 收录本帖的淘帖专辑推荐
资源 | 前沿材料资讯 |
» 猜你喜欢
2025冷门绝学什么时候出结果
已经有3人回复
天津工业大学郑柳春团队欢迎化学化工、高分子化学或有机合成方向的博士生和硕士生加入
已经有4人回复
康复大学泰山学者周祺惠团队招收博士研究生
已经有6人回复
AI论文写作工具:是科研加速器还是学术作弊器?
已经有3人回复
孩子确诊有中度注意力缺陷
已经有6人回复
2026博士申请-功能高分子,水凝胶方向
已经有6人回复
论文投稿,期刊推荐
已经有4人回复
硕士和导师闹得不愉快
已经有13人回复
请问2026国家基金面上项目会启动申2停1吗
已经有5人回复
同一篇文章,用不同账号投稿对编辑决定是否送审有没有影响?
已经有3人回复
» 本主题相关商家推荐: (我也要在这里推广)
» 本主题相关价值贴推荐,对您同样有帮助:
磁控溅射ZnO薄膜电阻太大
已经有19人回复
关于磁控溅射用的靶材方面的书籍
已经有22人回复
磁控溅射用的单晶硅片能重复使用吗
已经有5人回复
磁控溅射叉指电极制作方案中遇到的问题
已经有14人回复
磁控溅射电源问题
已经有11人回复
关于金属靶磁控溅射问题
已经有13人回复
请教一个磁控溅射制备薄膜的问题,用相同功率的直流和射频溅射金属靶效果有什么不同?
已经有13人回复
[求助]磁控溅射制备SiN,用的是射频电源,有辉光,但溅射不上
已经有11人回复
有在玻璃上磁控溅射上金做电极吗?
已经有7人回复
太阳能用的单晶硅片可以用来做磁控溅射的基底吗?
已经有7人回复
磁控溅射能起辉,但不能沉积
已经有21人回复
求助关于磁控溅射的问题
已经有29人回复
电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别?
已经有17人回复
做磁控溅射的朋友请进
已经有10人回复
【交流】请问用磁控溅射镀Ag膜时怎样留下出一条台阶以方便后面用台阶仪测其厚度呢?
已经有26人回复
» 抢金币啦!回帖就可以得到:
福州大学化工学院电子化学品团队博士招生
+1/130
湘潭大学化学学院理论与计算化学课题组裴勇教授招生博士生2名
+2/90
招收26年资源与环境领域、生物质生物转化、生物技术等方向博士研究生
+1/81
中科院理化所(北京)招收2026年材料学外招博士生1名(考核制)
+1/78
中国科学院赣江创新研究院特别研究助理/博士后招聘(1-2名)
+1/78
燕山大学2026级考核制博士招生——电容去离子方向(超级电容器衍生应用)
+1/37
国家青年人才叶立群教授课题组招收2026级博士研究生
+1/37
宁波大学张天宇教授课题组招聘副教授/讲师
+1/29
上海交通大学智能颗粒流体团队 招收工程AI计算方向科研助理、博士生及博士后
+1/25
美国圣母大学张艳良教授诚招全奖博士生
+2/20
中国科大-合肥国家实验室冷原子量子中继团队招聘启事
+2/12
湘潭大学2026年招收 力学 博士研究生2名(“申请-考核制”、硕博连读)
+1/7
浙江大学-化工学院刘平伟课题组-二维材料/功能聚合物开发
+1/6
欢迎报考中山大学课题组,提供2025-2026级硕士研究生名额
+1/6
长江大学武汉校区诚招工程热物理、油气、电气等新能源博士-2025
+1/5
长江学者团队招聘高校教师7名(地点杭州、有事业编)+博后5名
+1/5
香港城市大学 Microsystems and Semiconductor Technology Lab 博士生招生启事
+1/5
山东大学集成电路学院太赫兹团队博士招生
+1/4
沙特法赫德国王石油与矿产大学(KFUPM)膜分离课题组招生
+1/3
液相方法和氨基酸分析仪有什么不一样?
+1/3
17楼2014-11-02 23:03:58
2楼2012-05-05 08:59:10
★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
418783132: 金币+10, 不错 很详细!希望以后多到无机非交流~ 2012-05-06 00:25:53
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
418783132: 金币+10, 不错 很详细!希望以后多到无机非交流~ 2012-05-06 00:25:53
|
我做的是硅钛薄膜, 设备名称: 高真空多靶磁控溅射镀膜机 设备型号: JCP-350 主要技术指标 真空腔室 φ350 mm×H400mm; 真空系统 复合分子泵+直联旋片泵,气动真空阀门,“两低一高”数显复合真空计; 真空极限 优于8.0×10-5Pa; 抽速 从大气抽至6.0×10-3Pa≤15min; 可镀膜尺寸 2英寸1片,散片若干; 基片加热与旋转 衬底加热:室温~500℃,自动测温,PID控温;基片旋转:0-20转/分钟,可调可控; 溅射靶规格 2英寸,标配2只、1对蒸发电极,另预留1只靶位(中频溅射+射频溅射) 膜厚不均匀性 ≤±5%; 控制方式 手动按钮控制; 报警及保护 对泵、靶、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施; 占地面积 长×宽: 1600×1400mm; |
3楼2012-05-05 22:50:12
4楼2012-05-05 22:51:30













回复此楼
