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418783132

木虫 (著名写手)


[交流] 【学术交流】 磁控溅射——应用领域交流

无机非金属版学术交流活动开帖,欢迎虫友们积极参加。本活动旨在提高大家对无机非版的兴趣,鼓励大家踊跃发言,提问和应助都有奖励,如果活动很成功,拟长期举办。  





物理气相沉积(Physical Vapor Deposition, PVD)技术早在20世纪初已有些应用,并在最近30年得到迅速发展,成为一门具有广阔应用前景的新技术。其中磁控溅射镀膜(magnetron sputtering)和离子镀膜(Ion Plating)应用最为广泛。


在虫友们周围经常会遇到(或者是自己亲身经历)磁控溅射或离子镀等方法制备各种表面薄膜,如硬质薄膜,磁性材料薄膜,半导体薄膜甚至装饰薄膜等等,请大家说说自己或者自己了解到的 这两种方法在各个领域的应用、发展及前景;可以的话,可以进一步说说制备过程以及所遇到的问题,方便大家交流、讨论。

可具体说说:

1. 设备型号、产地、性能好坏等,
2. 靶材选择及来源、 薄膜类型及用途,
3.工艺参数 (方便透露的话可以给个大概的),
4. 来自那个课题组(方便透露的话就交流交流,不强求~),或者你知道的哪些课题组在该领域做的比较好(国内外不限),
5. 该领域的研究价值 和 应用前景如何,市场调查或就业情况如何。






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god1999

金虫 (小有名气)


★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
418783132: 金币+10, 不错 很详细!希望以后多到无机非交流~ 2012-05-06 00:25:53
我做的是硅钛薄膜,
设备名称:        高真空多靶磁控溅射镀膜机
设备型号:        JCP-350
主要技术指标
真空腔室        φ350 mm×H400mm;
真空系统        复合分子泵+直联旋片泵,气动真空阀门,“两低一高”数显复合真空计;
真空极限        优于8.0×10-5Pa;
抽速        从大气抽至6.0×10-3Pa≤15min;
可镀膜尺寸        2英寸1片,散片若干;
基片加热与旋转        衬底加热:室温~500℃,自动测温,PID控温;基片旋转:0-20转/分钟,可调可控;
溅射靶规格        2英寸,标配2只、1对蒸发电极,另预留1只靶位(中频溅射+射频溅射)
膜厚不均匀性        ≤±5%;
控制方式        手动按钮控制;
报警及保护        对泵、靶、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;
占地面积        长×宽: 1600×1400mm;
3楼2012-05-05 22:50:12
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zhoujun65

至尊木虫 (知名作家)


★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
418783132: 金币+2, 是啊,有什么想法吗?期待进一步交流~ 2012-05-05 12:04:26
其实最关键的是怎样合理的调节和获得成膜式的粒子能量
2楼2012-05-05 08:59:10
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god1999

金虫 (小有名气)


有人做这硅钛薄膜的吗?我还在摸索工艺参数,希望大家指点一下哈
4楼2012-05-05 22:51:30
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宁静的海150

金虫 (小有名气)


★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
418783132: 金币+2, 也可以介绍一下你们的流延机啊,鼓励过来交流~~ 2012-05-08 19:32:38
对这个不大懂呢,我只知道我们做陶瓷的用流延机做厚膜
8楼2012-05-08 15:13:53
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