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为什么磁控溅射氧化铝不起辉?急求!已有2人参与
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如题，用的是JCP-200高真空磁控溅射镀膜机，初始真空度5Pa以下，本底真空度5e-4Pa左右，功率100W，Ar氛围气压1Pa。为什么靶材是氧化铝的时候不起辉呢？试过将功率调高，或者增加气体流量，可是还是不能起辉。偶尔有可以起辉的时候，大约溅射4-5次能够成功一次。 靶材是Ti或者Au的时候就每次都能起辉。 急求各位大神指教，感激不尽。 |
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