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葵花点穴手h

银虫 (小有名气)

[求助] 进行磁控溅射时,如果不用外部加热器,基体温度为多少已有1人参与

进行磁控溅射时,如果不用外部加热器,基体会受到离子撞击,应该会升温,想知道能够达到多少度?
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
这个看你溅射多长时间了

我觉得:
使用DC的话,产生热量比较少,溅射5min的话,升温不会超过10oC
但是要是使用RF的话,产生热量比较多,同样时间,会升温10oC以上
2楼2012-04-12 16:44:48
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wzcrazy

至尊木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
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wbcui: 金币+1, 多谢帮助 2012-04-12 20:03:55
葵花点穴手h: 金币+2 2012-04-12 20:58:42
这跟功率和溅射时间都有关系 如果功率比较大的话 升到100多还是很容易的
3楼2012-04-12 17:17:57
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lijielin

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
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葵花点穴手h: 金币+2 2012-04-12 21:03:47
wbcui: 金币+1, 多谢参与 2012-04-16 13:21:16
呵呵,跟靶材,功率,溅射时间,惰性气体用量,都有关系。。。
熔点高的靶材,散热大
高功率高升温
一次溅射时间越长升温越高,刚开始较慢,越往后升温速度越快
通常来说,气体用量要适量,太少升温很快
6楼2012-04-12 20:59:15
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lijielin

木虫 (小有名气)


wbcui: 金币+1, 多谢帮助 2012-04-13 22:04:50
引用回帖:
9楼: Originally posted by 葵花点穴手h at 2012-04-12 21:06:44:
升温只是对基底的影响吗?还是整个真空室?按说基底受到离子轰击多,大约500W能升温多少呢?有没有什么可以定量分析的模型或者经验公式?嘿嘿,最近刚考虑到这点,不明白的很多

不好意思,我没有这方面的公式
1.基材和炉体都在升温,A.如果基材有在做公转自转的话温升都差不多,但基材过靶面会有较高的瞬间温度, B.如果停在靶面不懂,那基材的温升要比炉体温升快很多!!
2.大约500W能升温多少呢? 你用什么靶??这么低的功率估计温升很慢。靶材,功率,溅射时间,惰性气体用量
3.建议用温控仪测量镀膜过程中基材表面的温度曲线
10楼2012-04-13 21:11:59
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葵花点穴手h

银虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by wzcrazy at 2012-04-12 17:17:57:
这跟功率和溅射时间都有关系 如果功率比较大的话 升到100多还是很容易的

那电弧离子镀呢,是不是也会升温
做学术是一件严谨的事
4楼2012-04-12 18:48:47
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wzcrazy

至尊木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

没做过  不过应该会升吧
5楼2012-04-12 20:21:29
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葵花点穴手h

银虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by wzcrazy at 2012-04-12 20:21:29:
没做过  不过应该会升吧

哦,是不是有公式或数学模型可以计算一下啊
做学术是一件严谨的事
7楼2012-04-12 20:59:27
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lijielin

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖


wbcui: 金币+1, 能解释一下不?呵呵 2012-04-13 22:04:34
另外,多弧离子镀升温更快。。。。。这个你懂的,看看原理就知道
8楼2012-04-12 21:01:37
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葵花点穴手h

银虫 (小有名气)

引用回帖:
6楼: Originally posted by lijielin at 2012-04-12 20:59:15:
呵呵,跟靶材,功率,溅射时间,惰性气体用量,都有关系。。。
熔点高的靶材,散热大
高功率高升温
一次溅射时间越长升温越高,刚开始较慢,越往后升温速度越快
通常来说,气体用量要适量,太少升温很快

升温只是对基底的影响吗?还是整个真空室?按说基底受到离子轰击多,大约500W能升温多少呢?有没有什么可以定量分析的模型或者经验公式?嘿嘿,最近刚考虑到这点,不明白的很多
做学术是一件严谨的事
9楼2012-04-12 21:06:44
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