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aaron5235

木虫 (正式写手)

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[交流] 反应磁控溅射为什么不属于化学气相沉积法呢？已有3人参与

反应磁控溅射中，比如TiO2，有Ti+与氧离子的反应。为什么不是化学气相沉积法呢？？？

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人生在世，俯仰之间，唯有追求卓越，但求尽其所能

1楼 2014-05-07 09:55:18

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peterflyer

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peterflyer

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只有当单质金属颗粒如钛颗粒是由化学反应如分解或裂解反应而得的气相沉积过程才被认为属于化学气相沉积一类，如二茂镍热解成纳米镍颗粒并沉积的过程。

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2楼2014-05-07 15:47:28

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ddx4142

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化学气相沉积(Chemical vapor deposition，简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术。它本质上属于原子范畴的气态传质过程。与之相对的是物理气相沉积（PVD）。http://baike.baidu.com/view/1627731.htm?fr=aladdin

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3楼2014-05-07 22:51:23

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