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yulinmuxuan

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[求助] 本人学化工的问下材料方面的知识脉冲磁控溅射和反应磁控溅射是一种方法吗

两种方法有什么区别？在合成氮化钒方面用哪种方法比较好？谢谢

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做最好的自己加油

1楼 2013-03-14 14:25:49

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monsoonli

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【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
hwweven: 金币+2, 感谢参与应助 2013-03-15 08:02:48

同样是磁控溅射的原理，都是等离子体电离后粒子对靶材的轰击。是不是反应溅射取决与你用的是什么靶材，有没有反应发生；例如你做的是ZnO材料，用Zn靶的话，通过调节氧气的流量在高能量的轰击下反应生成ZnO材料，成为反应溅射；至于脉冲溅射，本人感觉只是溅射的形式的变化吧，可以做反应或者直接沉积，后者接触的不是太多。个人浅见，希望有帮助。

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2楼2013-03-14 20:57:26

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yulinmuxuan

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引用回帖:

2楼: Originally posted by monsoonli at 2013-03-14 20:57:26
同样是磁控溅射的原理，都是等离子体电离后粒子对靶材的轰击。是不是反应溅射取决与你用的是什么靶材，有没有反应发生；例如你做的是ZnO材料，用Zn靶的话，通过调节氧气的流量在高能量的轰击下反应生成ZnO材料，成为 ...

哦好的用基质一般处了玻璃硅还有什么啊各自都适合什么体系？上网查半天没插着，还有什么基质啊？

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做最好的自己加油

3楼2013-03-15 08:44:14

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