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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料工程 » 产品设计与开发 » 本人学化工的 问下材料方面的知识脉冲磁控溅射和反应磁控溅射是一种方法吗
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yulinmuxuan

金虫 (正式写手)

[求助] 本人学化工的 问下材料方面的知识脉冲磁控溅射和反应磁控溅射是一种方法吗

两种方法有什么区别？在合成氮化钒方面用哪种方法比较好？谢谢
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做最好的自己加油
1楼 2013-03-14 14:25:49
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mzhuxust

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
314977903: 金币+1, 应助指数+1, 感谢参与应助，欢迎常来材料工程版交流~ 2013-04-16 11:04:55
两者当然不是一回事，反应磁控溅射指的是你所沉积的物质是在沉积过程中通过反应形成的，比如说你要沉积的氮化钒用的靶材并不是氮化钒，而是金属钒，在溅射的过程中通入氮气，两者反应形成氮化钒膜。
脉冲磁控溅射是磁控溅射的一种形式，用他也可以做反应磁控溅射。
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5楼2013-04-06 11:16:20
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monsoonli

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
hwweven: 金币+2, 感谢参与应助 2013-03-15 08:02:48
同样是磁控溅射的原理，都是等离子体电离后粒子对靶材的轰击。是不是反应溅射取决与你用的是什么靶材，有没有反应发生；例如你做的是ZnO材料，用Zn靶的话，通过调节氧气的流量在高能量的轰击下反应生成ZnO材料，成为反应溅射；至于脉冲溅射，本人感觉只是溅射的形式的变化吧，可以做反应或者直接沉积，后者接触的不是太多。个人浅见，希望有帮助。
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2楼2013-03-14 20:57:26
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yulinmuxuan

金虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by monsoonli at 2013-03-14 20:57:26
同样是磁控溅射的原理，都是等离子体电离后粒子对靶材的轰击。是不是反应溅射取决与你用的是什么靶材，有没有反应发生；例如你做的是ZnO材料，用Zn靶的话，通过调节氧气的流量在高能量的轰击下反应生成ZnO材料，成为 ...

哦  好的  用基质一般处了 玻璃  硅还有什么啊  各自都适合什么体系？ 上网查半天没插着 ，还有什么基质啊？
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做最好的自己加油
3楼2013-03-15 08:44:14
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monsoonli

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★
314977903: 金币+1, 欢迎常来本版参与交流~ 2013-04-16 11:04:26
不同的体系有不同的基底，常用的就是硅片，玻璃，石英，蓝宝石（Al2O3）等，其它的可能根据体系要求选择吧，我用的最多的也是硅片和石英玻璃。
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4楼2013-04-05 15:01:27
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