| 查看: 2131 | 回复: 10 | ||
[求助]
求助关于磁控溅射清洗方面的问题~~~急急急 已有1人参与
|
|
请问各位大虾，在用磁控溅射仪器做实验时，在溅射前的基体清洗过程中需要将靶电源打开吗？ 因为我做实验的基体容易被氧化，需要再在溅射前长时间加上负偏压将氧化层打掉，可是我在清洗过程中打开靶电流的话，最后的薄膜的sem显示薄膜是两层，因此考虑在清洗过程中不开靶电流，但是不知道不开把电源 只加偏压和气压的情况下能不能达到清洗效果······· 谢谢啦·~~~ |
回复此楼» 猜你喜欢
307求调剂
已经有9人回复
-
288求调剂
已经有15人回复
-
085700资源与环境308求调剂
已经有5人回复
-
294求调剂材料与化工专硕
已经有14人回复
-
0817 化学工程 299分求调剂 有科研经历 有二区文章
已经有18人回复
-
265求调剂
已经有3人回复
-
296求调剂
已经有6人回复
-
0703化学调剂
已经有13人回复
-
085600材料与化工 求调剂
已经有15人回复
-
生物学调剂招人！！！
已经有4人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 求助关于磁控溅射的问题
已经有29人回复
- 【求助】关于射频磁控溅射镀膜问题
已经有5人回复
- 【求助】请教磁控溅射金属膜问题
已经有23人回复
- 【求助】磁控溅射时的基板问题
已经有4人回复
- 【求助】求助：磁控溅射问题
已经有20人回复
- 【求助】磁控溅射仪相关
已经有8人回复
- 【求助】磁控溅射真空腔如何清洗
已经有4人回复
2楼2012-04-27 09:47:48
3楼2012-05-03 09:45:27
4楼2012-05-05 14:20:19
5楼2012-05-23 10:00:28
6楼2012-05-23 10:34:59
7楼2012-05-24 20:08:09
8楼2012-05-24 20:11:27
9楼2012-05-24 20:34:29
| 顶 |
10楼2012-09-04 17:02:45
