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求助关于磁控溅射清洗方面的问题~~~急急急 已有1人参与
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请问各位大虾，在用磁控溅射仪器做实验时，在溅射前的基体清洗过程中需要将靶电源打开吗？ 因为我做实验的基体容易被氧化，需要再在溅射前长时间加上负偏压将氧化层打掉，可是我在清洗过程中打开靶电流的话，最后的薄膜的sem显示薄膜是两层，因此考虑在清洗过程中不开靶电流，但是不知道不开把电源 只加偏压和气压的情况下能不能达到清洗效果······· 谢谢啦·~~~ |
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