| 查看: 1988 | 回复: 10 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
求助关于磁控溅射清洗方面的问题~~~急急急 已有1人参与
|
||
|
请问各位大虾，在用磁控溅射仪器做实验时，在溅射前的基体清洗过程中需要将靶电源打开吗？ 因为我做实验的基体容易被氧化，需要再在溅射前长时间加上负偏压将氧化层打掉，可是我在清洗过程中打开靶电流的话，最后的薄膜的sem显示薄膜是两层，因此考虑在清洗过程中不开靶电流，但是不知道不开把电源 只加偏压和气压的情况下能不能达到清洗效果······· 谢谢啦·~~~ |
回复此楼» 猜你喜欢
论文终于录用啦！满足毕业条件了
已经有6人回复
-
2025年遐想
已经有4人回复
-
投稿Elsevier的杂志（返修），总是在选择OA和subscription界面被踢皮球
已经有8人回复
-
自然科学基金委宣布启动申请书“瘦身提质”行动
已经有4人回复
-
求个博导看看
已经有18人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 求助关于磁控溅射的问题
已经有29人回复
- 【求助】关于射频磁控溅射镀膜问题
已经有5人回复
- 【求助】请教磁控溅射金属膜问题
已经有23人回复
- 【求助】磁控溅射时的基板问题
已经有4人回复
- 【求助】求助：磁控溅射问题
已经有20人回复
- 【求助】磁控溅射仪相关
已经有8人回复
- 【求助】磁控溅射真空腔如何清洗
已经有4人回复
6楼2012-05-23 10:34:59