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wsword.3

金虫 (初入文坛)

[求助] 求助关于磁控溅射清洗方面的问题~~~急急急 已有1人参与

请问各位大虾,在用磁控溅射仪器做实验时,在溅射前的基体清洗过程中需要将靶电源打开吗?   
因为我做实验的基体容易被氧化,需要再在溅射前长时间加上负偏压将氧化层打掉,可是我在清洗过程中打开靶电流的话,最后的薄膜的sem显示薄膜是两层,因此考虑在清洗过程中不开靶电流,但是不知道不开把电源 只加偏压和气压的情况下能不能达到清洗效果·······
谢谢啦·~~~
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zs1217

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
engle028: 金币+1, 感谢交流 2012-05-23 10:49:32
wsword.3: 金币+5, ★★★很有帮助 2012-05-24 20:11:56
wsword.3: 金币+10, ★★★很有帮助 2012-05-30 18:35:17
你好,不用开靶电流也可以达到同样的清洗效果,我们每次做的什么都不开的,考虑到氧的影响建议你清洗的时候适当通一点氢气。
6楼2012-05-23 10:34:59
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wsword.3

金虫 (初入文坛)

怎么没有人回答呀~~~
2楼2012-04-27 09:47:48
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wsword.3

金虫 (初入文坛)

引用回帖:
6楼: Originally posted by zs1217 at 2012-05-23 10:34:59:
你好,不用开靶电流也可以达到同样的清洗效果,我们每次做的什么都不开的,考虑到氧的影响建议你清洗的时候适当通一点氢气。

那你们的 气压 偏压等参数都是多少呢  谢谢你啊~~~
7楼2012-05-24 20:08:09
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wsword.3

金虫 (初入文坛)

引用回帖:
6楼: Originally posted by zs1217 at 2012-05-23 10:34:59:
你好,不用开靶电流也可以达到同样的清洗效果,我们每次做的什么都不开的,考虑到氧的影响建议你清洗的时候适当通一点氢气。

不开靶电流 工作气体的能量不是没那么高么~~~
8楼2012-05-24 20:11:27
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