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aaron5235

木虫 (正式写手)

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[交流] 反应磁控溅射为什么不属于化学气相沉积法呢？已有3人参与

反应磁控溅射中，比如TiO2，有Ti+与氧离子的反应。为什么不是化学气相沉积法呢？？？

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人生在世，俯仰之间，唯有追求卓越，但求尽其所能

1楼2014-05-07 09:55:18

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ddx4142

铁杆木虫 (著名写手)

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化学气相沉积(Chemical vapor deposition，简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术。它本质上属于原子范畴的气态传质过程。与之相对的是物理气相沉积（PVD）。http://baike.baidu.com/view/1627731.htm?fr=aladdin

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3楼2014-05-07 22:51:23

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