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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术交流 » 反应磁控溅射为什么不属于化学气相沉积法呢？
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aaron5235

木虫 (正式写手)

[交流] 反应磁控溅射为什么不属于化学气相沉积法呢？ 已有3人参与

反应磁控溅射中，比如TiO2，有Ti+与氧离子的反应。为什么不是化学气相沉积法呢？？？
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1楼 2014-05-07 09:55:18
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ddx4142

铁杆木虫 (著名写手)
★
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化学气相沉积(Chemical vapor deposition，简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术。它本质上属于原子范畴的气态传质过程。与之相对的是物理气相沉积（PVD）。http://baike.baidu.com/view/1627731.htm?fr=aladdin
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3楼2014-05-07 22:51:23
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer
★
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只有当单质金属颗粒如钛颗粒是由化学反应如分解或裂解反应而得的气相沉积过程才被认为属于化学气相沉积一类，如二茂镍热解成纳米镍颗粒并沉积的过程。
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2楼2014-05-07 15:47:28
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longbowhe

银虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
磁控溅射过程中,金属粒子与反应气体是在衬底表面沉积时反应的,而在真空室中的气相物质不发生化学反应..而化学气相沉积是在气相时发生化学反应后再沉积的
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4楼2014-06-08 12:24:04
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