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aaron5235木虫 (正式写手)
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[交流]
反应磁控溅射为什么不属于化学气相沉积法呢？ 已有3人参与
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| 反应磁控溅射中，比如TiO2，有Ti+与氧离子的反应。为什么不是化学气相沉积法呢？？？ |
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| 化学气相沉积(Chemical vapor deposition，简称CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态物质沉积在加热的固态基体表面，进而制得固体材料的工艺技术。它本质上属于原子范畴的气态传质过程。与之相对的是物理气相沉积（PVD）。http://baike.baidu.com/view/1627731.htm?fr=aladdin |
3楼2014-05-07 22:51:23
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