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mxc879952467

木虫 (初入文坛)

小兵一名

[求助] 磁控溅射时,氩气流速不同有什么影响?

磁控溅射或高温退火时,不同的氩气流速对样品有影响吗?
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钦点木瓜

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
zhaohaixing: 欢迎来功能材料版块交流~ 2013-03-25 18:06:26
貌似还没遇见过这样的问题啊,控制气流量不都是用流量计吗。
不过,按照我的理解,气流流速越大的话,单位时间在腔室内的气体量就越多,这会使得溅射出来的原子团或者分子团的自由程减少,也就是原子团或分子团受到的阻力大,不容易到达基片表面。不知道对不对,仅供参考
用绳命来搞科研
2楼2013-03-25 15:51:25
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zvs1988

铁杆木虫 (著名写手)

BOSS

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
zhaohaixing: 欢迎来功能材料版块交流~ 2013-03-25 18:06:32
溅射速率  散射强度   高温退火时流量大只会使冷却速度加快
何必看破
3楼2013-03-25 16:21:49
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mxc879952467

木虫 (初入文坛)

小兵一名

引用回帖:
3楼: Originally posted by zvs1988 at 2013-03-25 11:21:49
溅射速率  散射强度   高温退火时流量大只会使冷却速度加快

那氩气流速越大,溅射速率和散射强度是越大还是越小呢?
用心做事,爱心育人
4楼2013-03-25 16:45:10
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wangbo1966

新虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
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zhaohaixing: 欢迎来功能材料版块交流~ 2013-03-25 18:06:39
mxc879952467: 金币+5, ★★★很有帮助 2013-03-26 15:12:41
2楼和3楼的观点都略有问题。
实际上,影响粒子散射的因素是分子自由程,与溅射时的工作气压有关,与流速的关系不大。
在溅射的工作气压的量级下,分子自由程较大,“气流”的概念已经不太合适了,应按照气体扩散的概念去思考问题。
但是,有的系统的氩气最终出口是设置在靶的旁边,例如设有“供气环”,(即一个环形管上开许多小孔),这样的话当气流过大时,真空室内的气压均匀性会降低,即真空计显示的气压比靶附近的实际气压偏低。但气流过小时,为了维持气压不变,需降低系统抽速,这样对于漏率较高的系统,有可能会使杂质气体所占的分压升高,氩气所占分压偏低。
5楼2013-03-25 17:04:50
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zvs1988

铁杆木虫 (著名写手)

BOSS

引用回帖:
5楼: Originally posted by wangbo1966 at 2013-03-25 17:04:50
2楼和3楼的观点都略有问题。
实际上,影响粒子散射的因素是分子自由程,与溅射时的工作气压有关,与流速的关系不大。
在溅射的工作气压的量级下,分子自由程较大,“气流”的概念已经不太合适了,应按照气体扩散的 ...

好吧  同学很认真  就是这个意思吧
何必看破
6楼2013-03-25 22:40:01
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zvs1988

铁杆木虫 (著名写手)

BOSS

引用回帖:
4楼: Originally posted by mxc879952467 at 2013-03-25 16:45:10
那氩气流速越大,溅射速率和散射强度是越大还是越小呢?...

气压大时溅射速率慢 散射强度大
何必看破
7楼2013-03-25 22:41:09
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swxby

木虫 (著名写手)

气体流量从来都是和压强同时考虑,分开考虑没有意义。
压强才是越低,生长越快。
退火改变结晶状况,如晶向。
喵了个咪的~
8楼2013-12-12 21:49:14
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