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mxc879952467木虫 (初入文坛)
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磁控溅射时，氩气流速不同有什么影响？
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| 磁控溅射或高温退火时，不同的氩气流速对样品有影响吗？ |
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2楼2013-03-25 15:51:25
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3楼2013-03-25 16:21:49
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【答案】应助回帖
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mxc879952467: 金币+5, ★★★很有帮助 2013-03-26 15:12:41
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mxc879952467: 金币+5, ★★★很有帮助 2013-03-26 15:12:41
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2楼和3楼的观点都略有问题。 实际上，影响粒子散射的因素是分子自由程，与溅射时的工作气压有关，与流速的关系不大。 在溅射的工作气压的量级下，分子自由程较大，“气流”的概念已经不太合适了，应按照气体扩散的概念去思考问题。 但是，有的系统的氩气最终出口是设置在靶的旁边，例如设有“供气环”，（即一个环形管上开许多小孔），这样的话当气流过大时，真空室内的气压均匀性会降低，即真空计显示的气压比靶附近的实际气压偏低。但气流过小时，为了维持气压不变，需降低系统抽速，这样对于漏率较高的系统，有可能会使杂质气体所占的分压升高，氩气所占分压偏低。 |
5楼2013-03-25 17:04:50
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就是这个意思吧 6楼2013-03-25 22:40:01
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7楼2013-03-25 22:41:09
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