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为什么磁控溅射氧化铝不起辉?急求!
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为什么磁控溅射氧化铝不起辉?急求!
已有2人参与
如题,用的是JCP-200高真空磁控溅射镀膜机,初始真空度5Pa以下,本底真空度5e-4Pa左右,功率100W,Ar氛围气压1Pa。为什么靶材是氧化铝的时候不起辉呢?试过将功率调高,或者增加气体流量,可是还是不能起辉。偶尔有可以起辉的时候,大约溅射4-5次能够成功一次。
靶材是Ti或者Au的时候就每次都能起辉。
急求各位大神指教,感激不尽。
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1楼
2015-03-23 10:36:17
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2楼
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Originally posted by
野人禾禾
at 2015-03-25 18:59:45
电源是什么类型?
射频电源。
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6楼
2015-03-27 12:56:18
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野人禾禾
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电源是什么类型?
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擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
2楼
2015-03-25 18:59:45
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氧化铝是绝缘体,用DC溅射比较困难,可以试试射频溅射。
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3楼
2015-03-26 00:44:29
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除了射频溅射外,考虑一下加热,400度到500度那样的
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4楼
2015-03-26 08:46:38
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