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赶快毕业吧

木虫 (著名写手)

[求助] 为什么磁控溅射氧化铝不起辉?急求! 已有2人参与

如题,用的是JCP-200高真空磁控溅射镀膜机,初始真空度5Pa以下,本底真空度5e-4Pa左右,功率100W,Ar氛围气压1Pa。为什么靶材是氧化铝的时候不起辉呢?试过将功率调高,或者增加气体流量,可是还是不能起辉。偶尔有可以起辉的时候,大约溅射4-5次能够成功一次。
靶材是Ti或者Au的时候就每次都能起辉。
急求各位大神指教,感激不尽。
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cord

铁杆木虫 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
氧化铝是绝缘体,用DC溅射比较困难,可以试试射频溅射。
3楼2015-03-26 00:44:29
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野人禾禾

金虫 (正式写手)

电源是什么类型?
擅长薄膜材料工艺,欢迎交流captain0119
2楼2015-03-25 18:59:45
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1142211017

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
除了射频溅射外,考虑一下加热,400度到500度那样的
不要做让自己看不起的事情
4楼2015-03-26 08:46:38
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赶快毕业吧

木虫 (著名写手)

引用回帖:
3楼: Originally posted by cord at 2015-03-26 00:44:29
氧化铝是绝缘体,用DC溅射比较困难,可以试试射频溅射。

我就是用的射频溅射啊。有的时候好使,有的时候就不行了,间歇性抽风。
5楼2015-03-27 12:54:40
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