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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 纯金属溅射靶电压提不上来怎么回事
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liaofang20

银虫 (小有名气)

[求助] 纯金属溅射靶电压提不上来怎么回事 已有2人参与

我直流磁控溅射纯铝，但是电流可以增大，电压一直在200V左右，以前的电压会在400V以上的。溅射的辉光是红色的，靶表面有氧化物，但是靶表面有氧化物不是电流升不高，电压比较高的嘛，很纳闷，不知道如何解释。哪位高手能解答？
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1楼 2014-06-24 14:19:26
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回帖支持 ( 显示支持度最高的前 50 名 )

peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
liaofang20: 金币+5, ★有帮助 2014-06-25 15:55:35
根据Paschen定律，直流磁控溅射的电压不是决定于氩气气压与正负极的板距吗？改变任何一个因素都可提高溅射电压的。
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2楼2014-06-24 15:14:50
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916941518

银虫 (小有名气)
可能是你所套的靶材套距离靶材较近，之间的电阻较小，不能累计电压，之间距离可以适当增大一些
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11楼2014-06-28 09:30:48
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liaofang20

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by peterflyer at 2014-06-24 15:14:50
根据Paschen定律，直流磁控溅射的电压不是决定于氩气气压与正负极的板距吗？改变任何一个因素都可提高溅射电压的。

因为这两个靶有用过，在同一个设备和同样的条件下，就是气压还是那个气压，板剧啥的都没变。
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3楼2014-06-25 15:56:49
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

★ ★
liaofang20: 金币+2, ★有帮助 2014-06-26 13:48:34
引用回帖:
3楼: Originally posted by liaofang20 at 2014-06-25 15:56:49
因为这两个靶有用过，在同一个设备和同样的条件下，就是气压还是那个气压，板剧啥的都没变。...

那是不是溅射反应室气体的纯度发生了改变了呢？
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4楼2014-06-25 16:52:47
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hrhhrh

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
liaofang20: 金币+5, ★有帮助 2014-06-26 13:45:12
纯金属的二次电子发射系数要低一些，溅射电压高是正常现象，靶表面溅干净就好了，如果一直没有变化，要查一下系统漏气。
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5楼2014-06-26 11:14:52
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liaofang20

银虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by peterflyer at 2014-06-25 16:52:47
那是不是溅射反应室气体的纯度发生了改变了呢？...

Ar气是同一家的，这个纯度变没变也不知道啊
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6楼2014-06-26 13:48:33
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liaofang20

银虫 (小有名气)
引用回帖:
5楼: Originally posted by hrhhrh at 2014-06-26 11:14:52
纯金属的二次电子发射系数要低一些，溅射电压高是正常现象，靶表面溅干净就好了，如果一直没有变化，要查一下系统漏气。

我的问题是电压低了，以前用是400V ，最近用只有200V多点了。很奇怪为什么会低？一般正常的也是400多V
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7楼2014-06-26 13:55:03
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hrhhrh

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
liaofang20: 金币+8, ★★★很有帮助 2014-06-26 15:45:40
引用回帖:
7楼: Originally posted by liaofang20 at 2014-06-26 13:55:03
我的问题是电压低了，以前用是400V ，最近用只有200V多点了。很奇怪为什么会低？一般正常的也是400多V...

一般情况下化合物的二次电子发射系数高于纯金属，因此同样条件下，靶表面有氧化物与干净的金属靶面相比溅射电压要低，还是要在纯氩条件下把靶表面化合物溅射干净后，溅射电压就会升高至原来的值，大概需要几分钟的样子，如果一直没变化，则要检查气体纯度、漏气等原因。
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8楼2014-06-26 15:41:56
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liaofang20

银虫 (小有名气)
引用回帖:
8楼: Originally posted by hrhhrh at 2014-06-26 15:41:56
一般情况下化合物的二次电子发射系数高于纯金属，因此同样条件下，靶表面有氧化物与干净的金属靶面相比溅射电压要低，还是要在纯氩条件下把靶表面化合物溅射干净后，溅射电压就会升高至原来的值，大概需要几分钟的 ...

多谢。
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9楼2014-06-26 15:45:39
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hrhhrh

木虫 (正式写手)
不客气，互相学习。
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10楼2014-06-27 09:45:47
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