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138dong

金虫 (正式写手)

[求助] 直流磁控溅射制备DLC，靶功率源的电压一直飙升，请问大神们是什么原因？ 已有1人参与

用直流磁控溅射石墨靶制备DLC，外加离子源辅助，现在遇到的问就是靶功率源那里，调节电流为0.2A不变，电压刚开始就偏高，为500V，20Min后变为720V，半小时后电压竟然为840V了。通入的气体是氩气，前期放电不稳定，后期较稳定（蓝光），请问大神们电压飙升是什么原因？
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书上有路勤为径
1楼 2014-04-09 13:50:34
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刺客yl

铁虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
314977903: 金币+1, 欢迎新虫常来材料工程版发帖交流~ 2014-04-11 10:57:11
314977903: 金币+1, 感谢参与应助讨论 2014-04-11 10:57:33
腔室里的游离C原子增多，C在Ar等离子体撞击时候，形成相反电性离子，与Ar等离子体运动方向相反，增加系统阻抗，恒流源的话，功率不变，电阻增加，那么电压必然升高。
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2楼2014-04-09 15:17:07
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138dong

金虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 刺客yl at 2014-04-09 15:17:07
腔室里的游离C原子增多，C在Ar等离子体撞击时候，形成相反电性离子，与Ar等离子体运动方向相反，增加系统阻抗，恒流源的话，功率不变，电阻增加，那么电压必然升高。

有没有办法可以解决这个问题呢？我买的石墨靶上面有很多裂纹，而且相对比较疏松，不知有没有影响。
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书上有路勤为径
3楼2014-04-09 21:48:20
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刺客yl

铁虫 (正式写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 138dong at 2014-04-09 21:48:20
有没有办法可以解决这个问题呢？我买的石墨靶上面有很多裂纹，而且相对比较疏松，不知有没有影响。...

像C这种单质，直流溅射基本都会出现前后速率或者功率因数的改变。如果靶材在上部，基片在下部，可以试试射频或者交流
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4楼2014-04-10 08:55:16
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449836384

新虫 (初入文坛)
你观察下成膜过程中气压有波动么？
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5楼2015-09-15 14:43:32
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