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直流磁控溅射制备DLC,靶功率源的电压一直飙升,请问大神们是什么原因?
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138dong
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直流磁控溅射制备DLC,靶功率源的电压一直飙升,请问大神们是什么原因?
已有1人参与
用直流磁控溅射石墨靶制备DLC,外加离子源辅助,现在遇到的问就是靶功率源那里,调节电流为0.2A不变,电压刚开始就偏高,为500V,20Min后变为720V,半小时后电压竟然为840V了。通入的气体是氩气,前期放电不稳定,后期较稳定(蓝光),请问大神们电压飙升是什么原因?
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2014-04-09 13:50:34
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【答案】应助回帖
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2014-04-11 10:57:11
314977903: 金币+1, 感谢参与应助讨论
2014-04-11 10:57:33
腔室里的游离C原子增多,C在Ar等离子体撞击时候,形成相反电性离子,与Ar等离子体运动方向相反,增加系统阻抗,恒流源的话,功率不变,电阻增加,那么电压必然升高。
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2楼
2014-04-09 15:17:07
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2楼
:
Originally posted by
刺客yl
at 2014-04-09 15:17:07
腔室里的游离C原子增多,C在Ar等离子体撞击时候,形成相反电性离子,与Ar等离子体运动方向相反,增加系统阻抗,恒流源的话,功率不变,电阻增加,那么电压必然升高。
有没有办法可以解决这个问题呢?我买的石墨靶上面有很多裂纹,而且相对比较疏松,不知有没有影响。
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书上有路勤为径
3楼
2014-04-09 21:48:20
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3楼
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Originally posted by
138dong
at 2014-04-09 21:48:20
有没有办法可以解决这个问题呢?我买的石墨靶上面有很多裂纹,而且相对比较疏松,不知有没有影响。...
像C这种单质,直流溅射基本都会出现前后速率或者功率因数的改变。如果靶材在上部,基片在下部,可以试试射频或者交流
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4楼
2014-04-10 08:55:16
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你观察下成膜过程中气压有波动么?
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5楼
2015-09-15 14:43:32
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