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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 纯金属溅射靶电压提不上来怎么回事
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liaofang20

银虫 (小有名气)

[求助] 纯金属溅射靶电压提不上来怎么回事 已有2人参与

我直流磁控溅射纯铝，但是电流可以增大，电压一直在200V左右，以前的电压会在400V以上的。溅射的辉光是红色的，靶表面有氧化物，但是靶表面有氧化物不是电流升不高，电压比较高的嘛，很纳闷，不知道如何解释。哪位高手能解答？
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1楼 2014-06-24 14:19:26
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liaofang20

银虫 (小有名气)
引用回帖:
5楼: Originally posted by hrhhrh at 2014-06-26 11:14:52
纯金属的二次电子发射系数要低一些，溅射电压高是正常现象，靶表面溅干净就好了，如果一直没有变化，要查一下系统漏气。

我的问题是电压低了，以前用是400V ，最近用只有200V多点了。很奇怪为什么会低？一般正常的也是400多V
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7楼2014-06-26 13:55:03
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
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liaofang20: 金币+5, ★有帮助 2014-06-25 15:55:35
根据Paschen定律，直流磁控溅射的电压不是决定于氩气气压与正负极的板距吗？改变任何一个因素都可提高溅射电压的。
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2楼2014-06-24 15:14:50
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liaofang20

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by peterflyer at 2014-06-24 15:14:50
根据Paschen定律，直流磁控溅射的电压不是决定于氩气气压与正负极的板距吗？改变任何一个因素都可提高溅射电压的。

因为这两个靶有用过，在同一个设备和同样的条件下，就是气压还是那个气压，板剧啥的都没变。
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3楼2014-06-25 15:56:49
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

★ ★
liaofang20: 金币+2, ★有帮助 2014-06-26 13:48:34
引用回帖:
3楼: Originally posted by liaofang20 at 2014-06-25 15:56:49
因为这两个靶有用过，在同一个设备和同样的条件下，就是气压还是那个气压，板剧啥的都没变。...

那是不是溅射反应室气体的纯度发生了改变了呢？
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4楼2014-06-25 16:52:47
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