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wjy_421

新虫 (小有名气)

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[求助] 磁控溅射制备氮化铟薄膜

我想要制备氮化铟薄膜，用纯金属铟为靶材，氮气和氩气为反应气体，我现在不知道，是该用直流反应溅射制备好还是用射频反应溅射制备比较好，请教高手，为我解答哪种方法得到薄膜比较好？如果用直流反应溅射的话，直流负高压应该为多少合适呢？多谢

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当你站在高处时能让别人看清你，当你跌落低谷时,你能看清所有人

1楼 2013-11-26 15:22:40

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coatingzhang

捐助贵宾 (小有名气)

本帖内容被屏蔽

5楼2013-11-30 22:33:13

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

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