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磁控溅射制备氮化铟薄膜
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| 我想要制备氮化铟薄膜，用纯金属铟为靶材，氮气和氩气为反应气体，我现在不知道，是该用直流反应溅射制备好还是用射频反应溅射制备比较好，请教高手，为我解答哪种方法得到薄膜比较好？如果用直流反应溅射的话，直流负高压应该为多少合适呢？多谢 |
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2楼2013-11-26 21:13:08
leongoall
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3楼2013-11-27 07:03:03
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coatingzhang
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5楼2013-11-30 22:33:13
jiahong517 
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6楼2014-05-27 00:41:22