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scuthb

新虫 (初入文坛)

[求助] 求助:磁控溅射制备ZnOS薄膜,重复不出来

用磁控溅射制备ZnOS薄膜,以ZnS为靶材,以Ar和O2分别为工作气体和反应气体,通过改变氧分压调节ZnOS合金中的S含量。
    两个月前第一次做实验时,制备出了结晶性较好的合金薄膜。但之后一直无法重复出来,所制备的样品为非晶(XRD上几乎没有信号)。请问有可能是哪些原因引起的?
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physdu

新虫 (初入文坛)


zhaohaixing: 金币+1, 鼓励新虫多作交流~ 2012-08-01 08:54:53
溅射这东西感觉确实不太好重复,同样的工作条件,确实会重复不出来

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
6楼2012-08-01 07:11:40
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普通回帖

liujun719

木虫 (正式写手)

这个比较纠结
2楼2012-07-31 12:32:22
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游文武

木虫 (著名写手)

111

难道是温度
3楼2012-07-31 17:00:12
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Smallpeng

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
你确定是严格按照你当时的条件来做?按理说不会啊,机器会不会出问题,测试手段条件是不是不一样?
勇敢自信踏实,科研其实和生活是一样一样的
4楼2012-07-31 19:57:48
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Eric_

新虫 (小有名气)

做非晶好,有前途

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
5楼2012-07-31 22:51:21
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蒋青松

荣誉版主 (著名写手)

优秀版主优秀版主优秀版主

看来需要好好思考下,再努力做做实验,
帮顶·············
7楼2012-08-01 07:38:56
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scuthb

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
4楼: Originally posted by Smallpeng at 2012-07-31 19:57:48
你确定是严格按照你当时的条件来做?按理说不会啊,机器会不会出问题,测试手段条件是不是不一样?

可控制的参数(温度、气压、氧分压、溅射功率和衬底)都是一样的。测试的话我主要是看XRD,同样的条件下,出现两种极端结果:1、结晶性能很好(只有ZnO的(002)峰);2、非晶(XRD几乎没有信号)
8楼2012-08-01 09:27:43
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scuthb

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
5楼: Originally posted by Eric_ at 2012-07-31 22:51:21
做非晶好,有前途

可是我的目的不是非晶。
9楼2012-08-01 09:28:36
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scuthb

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
6楼: Originally posted by physdu at 2012-08-01 07:11:40
溅射这东西感觉确实不太好重复,同样的工作条件,确实会重复不出来

请问你碰到过相似的问题吗?解决问题的思路?
10楼2012-08-01 09:30:09
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