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[求助]
求助:磁控溅射制备ZnOS薄膜,重复不出来
用磁控溅射制备ZnOS薄膜,以ZnS为靶材,以Ar和O2分别为工作气体和反应气体,通过改变氧分压调节ZnOS合金中的S含量。
两个月前第一次做实验时,制备出了结晶性较好的合金薄膜。但之后一直无法重复出来,所制备的样品为非晶(XRD上几乎没有信号)。请问有可能是哪些原因引起的? |
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