| 查看: 1750 | 回复: 18 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
[求助]
求助：磁控溅射制备ZnOS薄膜，重复不出来
|
||
|
用磁控溅射制备ZnOS薄膜，以ZnS为靶材，以Ar和O2分别为工作气体和反应气体，通过改变氧分压调节ZnOS合金中的S含量。 两个月前第一次做实验时，制备出了结晶性较好的合金薄膜。但之后一直无法重复出来，所制备的样品为非晶（XRD上几乎没有信号）。请问有可能是哪些原因引起的？ |
回复此楼» 猜你喜欢
Cas 72-43-5需要30g，定制合成，能接单的留言
已经有8人回复
-
求助:我三月中下旬出站，青基依托单位怎么办？
已经有6人回复
-
北京211副教授，35岁，想重新出发，去国外做博后，怎么样？
已经有8人回复
-
磺酰氟产物，毕不了业了！
已经有5人回复
-
论文终于录用啦！满足毕业条件了
已经有25人回复
-
2026年机械制造与材料应用国际会议 （ICMMMA 2026）
已经有3人回复
-
自荐读博
已经有3人回复
-
不自信的我
已经有5人回复
-
投稿Elsevier的杂志（返修），总是在选择OA和subscription界面被踢皮球
已经有8人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 关于磁控溅射制备掺杂氧化锌薄膜的一些小问题
已经有3人回复
- 求助：反应磁控溅射制备氮化铬薄膜，靶电源用DC还是RF好呢？
已经有9人回复
- 【求助】磁控溅射 ZnO镀膜
已经有16人回复
- 【求助】磁控反应溅射一短时间后怎么老是腔里面会怕的一声响
已经有7人回复
- 【求助】为什么磁控溅射装备以前能起辉而现在不能起辉
已经有12人回复
- 【求助】磁控溅射靶材与衬底的距离
已经有20人回复
5楼2012-07-31 22:51:21
scuthb12楼2012-08-01 10:15:17