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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 求助：磁控溅射制备ZnOS薄膜，重复不出来
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scuthb

新虫 (初入文坛)

[求助] 求助：磁控溅射制备ZnOS薄膜，重复不出来

用磁控溅射制备ZnOS薄膜，以ZnS为靶材，以Ar和O2分别为工作气体和反应气体，通过改变氧分压调节ZnOS合金中的S含量。
    两个月前第一次做实验时，制备出了结晶性较好的合金薄膜。但之后一直无法重复出来，所制备的样品为非晶（XRD上几乎没有信号）。请问有可能是哪些原因引起的？
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1楼 2012-07-30 11:09:09
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scuthb

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
5楼: Originally posted by Eric_ at 2012-07-31 22:51:21
做非晶好，有前途

可是我的目的不是非晶。
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9楼2012-08-01 09:28:36
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Smallpeng

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
你确定是严格按照你当时的条件来做？按理说不会啊，机器会不会出问题，测试手段条件是不是不一样？
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勇敢自信踏实，科研其实和生活是一样一样的
4楼2012-07-31 19:57:48
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Eric_

新虫 (小有名气)
做非晶好，有前途

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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5楼2012-07-31 22:51:21
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physdu

新虫 (初入文坛)
★
zhaohaixing: 金币+1, 鼓励新虫多作交流~ 2012-08-01 08:54:53
溅射这东西感觉确实不太好重复，同样的工作条件，确实会重复不出来

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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6楼2012-08-01 07:11:40
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