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新虫 (初入文坛)

[求助] 求助：磁控溅射制备ZnOS薄膜，重复不出来

用磁控溅射制备ZnOS薄膜，以ZnS为靶材，以Ar和O2分别为工作气体和反应气体，通过改变氧分压调节ZnOS合金中的S含量。
两个月前第一次做实验时，制备出了结晶性较好的合金薄膜。但之后一直无法重复出来，所制备的样品为非晶（XRD上几乎没有信号）。请问有可能是哪些原因引起的？

1楼 2012-07-30 11:09:09

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新虫 (初入文坛)

★
zhaohaixing: 金币+1, 鼓励新虫多作交流~ 2012-08-01 08:54:53

溅射这东西感觉确实不太好重复，同样的工作条件，确实会重复不出来

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]

6楼2012-08-01 07:11:40

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